|
|
Optimization of deep reactive ion etching process
Houška, David ; Hrdý, Radim (referee) ; Prášek, Jan (advisor)
This bachelor thesis deals with optimization of cryogenic and Bosch deep reactive ion etching (DRIE) processes. The thesis describes characterization of silicon etching methods, the principle of DRIE and the influence of individual parameters on the resulting etch profile. Based on the analysis of fabricated samples using scanning electron microscopy (SEM), both processes were optimized to create narrow microstructures with diameters ranging from 1 to 16 µm with the highest achieved depth-to-width ratio of 28:1 on a silicon substrate. Furthermore, surface roughness was analyzed using atomic force microscopy (AFM) and the presence of fluorine residues by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) in structures etched by both processes.
|
|
|
Semi-automated Design of High-performance Digital Circuits with Xilinx FPGAs
Houška, David ; Dvořák, Vojtěch (referee) ; Šťáva, Martin (advisor)
Tato diplomová práce se zabývá návrhem sekvenčních digitálních obvodů s ohledem na optimalizaci zpoždění. V práci je popsána problematika dvou technik, které jsou běžně používané při optimalizaci – stručně je popsána technika tzv. synchronizace registrů (angl. retiming), větší pozornost je však věnována technice tzv. zřetězení (angl. pipelining). V rámci praktické části byla vypracována forma abstrakce sekvenčních digitálních obvodů pomocí acyklických orientovaných grafů. Obvod je tak přenesen do roviny, ve které je jednodušší jej transformovat. Zároveň je představen nástroj pro polo-automatickou optimalizaci digitálních obvodů vyvíjených v prostředí Xilinx ISE Design Suite využitím techniky zřetězení.
|
|
| |
|
|
Semi-automated Design of High-performance Digital Circuits with Xilinx FPGAs
Houška, David ; Dvořák, Vojtěch (referee) ; Šťáva, Martin (advisor)
Tato diplomová práce se zabývá návrhem sekvenčních digitálních obvodů s ohledem na optimalizaci zpoždění. V práci je popsána problematika dvou technik, které jsou běžně používané při optimalizaci – stručně je popsána technika tzv. synchronizace registrů (angl. retiming), větší pozornost je však věnována technice tzv. zřetězení (angl. pipelining). V rámci praktické části byla vypracována forma abstrakce sekvenčních digitálních obvodů pomocí acyklických orientovaných grafů. Obvod je tak přenesen do roviny, ve které je jednodušší jej transformovat. Zároveň je představen nástroj pro polo-automatickou optimalizaci digitálních obvodů vyvíjených v prostředí Xilinx ISE Design Suite využitím techniky zřetězení.
|
|
|
Optimization of deep reactive ion etching process
Houška, David ; Hrdý, Radim (referee) ; Prášek, Jan (advisor)
This bachelor thesis deals with optimization of cryogenic and Bosch deep reactive ion etching (DRIE) processes. The thesis describes characterization of silicon etching methods, the principle of DRIE and the influence of individual parameters on the resulting etch profile. Based on the analysis of fabricated samples using scanning electron microscopy (SEM), both processes were optimized to create narrow microstructures with diameters ranging from 1 to 16 µm with the highest achieved depth-to-width ratio of 28:1 on a silicon substrate. Furthermore, surface roughness was analyzed using atomic force microscopy (AFM) and the presence of fluorine residues by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) in structures etched by both processes.
|
guest ::
RSS feed.