Hlavní stránka > Výsledky hledání: recid:387503
Hledej:
 
Tipy pro vyhledávaní :: Jednoduché hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 1 záznamů.  Hledání trvalo 0.01 vteřin. 

Warning: Requested record does not seem to exist.
Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
 Horáček, Miroslav ; Knápek, Alexandr ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, M. ; Mika, Filip ; Kolařík, Vladimír
The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to\nthe exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale\nlithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and\nbeam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.\nRecently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection by\nintroducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill in\nseparate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up our\nresearch on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–\nlike arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from the\ndiffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.
Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English