|
|
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
|
|
|
Funkční organicko-anorganické nanostruktury
Kelíšek, Petr ; Zmeškal, Oldřich (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práce se zabývá přípravou vrstevnatých organicko-anorganických nanostruktur pomocí technologie PECVD a analýzou optických vlastností těchto vrstev pomocí spektroskopické elipsometrie. Teoretická část práce se zabývá popisem tenkých vrstev, vrstevnatých a gradientních multivrstev, plazmochemickou depozicí z plynné fáze a principy spektroskopické elipsometrie. V experimentální části jsou popsány použité materiály a chemikálie, dále je kompletně popsána aparatura použitá k přípravě vzorků vrstev a postup přípravy vzorků. Výsledková část práce sestává z metodiky přípravy materiálových modelů nezbytných pro elipsometrická měření a vyhodnocení optických vlastností deponovaných nanovrstev.
|
|
|
Funkční organicko-anorganické nanostruktury
Kelíšek, Petr ; Zmeškal, Oldřich (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práce se zabývá přípravou vrstevnatých organicko-anorganických nanostruktur pomocí technologie PECVD a analýzou optických vlastností těchto vrstev pomocí spektroskopické elipsometrie. Teoretická část práce se zabývá popisem tenkých vrstev, vrstevnatých a gradientních multivrstev, plazmochemickou depozicí z plynné fáze a principy spektroskopické elipsometrie. V experimentální části jsou popsány použité materiály a chemikálie, dále je kompletně popsána aparatura použitá k přípravě vzorků vrstev a postup přípravy vzorků. Výsledková část práce sestává z metodiky přípravy materiálových modelů nezbytných pro elipsometrická měření a vyhodnocení optických vlastností deponovaných nanovrstev.
|
|
|
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
|
host ::
RSS.