|
|
Rozpoznávání podobností souborů na základě chování
Otočka, Dávid ; Vojnar, Tomáš (oponent) ; Peringer, Petr (vedoucí práce)
Cílem práce bylo navrhnout algoritmus, který na základě výstupu z analýzy chovaní programu, dokáže stanovit míru podobnosti s jinými programy. Pro potřeby algoritmu byla upravena Levenshteinova metoda pro výpočet rozdílu mezi dvěma řetězci a metoda NCD. U obou metod je v práci uveden spůsob jejich implementace a výsledky testů. V práci jsou popsány způsoby analýzy programů v prostředí virtuálního počítače i vysvětlení některých základních pojmů týkajících se analýzy škodlivého kódu.
|
|
|
Rozpoznávání podobností souborů na základě chování
Otočka, Dávid ; Vojnar, Tomáš (oponent) ; Peringer, Petr (vedoucí práce)
Cílem práce bylo navrhnout algoritmus, který na základě výstupu z analýzy chovaní programu, dokáže stanovit míru podobnosti s jinými programy. Pro potřeby algoritmu byla upravena Levenshteinova metoda pro výpočet rozdílu mezi dvěma řetězci a metoda NCD. U obou metod je v práci uveden spůsob jejich implementace a výsledky testů. V práci jsou popsány způsoby analýzy programů v prostředí virtuálního počítače i vysvětlení některých základních pojmů týkajících se analýzy škodlivého kódu.
|
|
| |
|
|
Review of nanocrystalline diamond film deposition on silicon and glass substrates down to 400 °C
Potocký, Štěpán ; Babchenko, Oleg ; Ižák, Tibor ; Varga, Marián ; Kromka, Alexander ; Rezek, Bohuslav ; Michalka, M.
We present an overview of a nanocrystalline diamond (NCD) films deposition on silicon and glass substrates by microwave plasma CVD in hydrogen-based gas mixture. The temperature plays a crucial parameter as the diamond growth process is temperature controlled. Use of temperature sensitive substrates demanded reducing substrate temperature. Natural decrease of deposition rate resulted in search of new or nonstandard process parameters which could at least minimize or compensate it. Addition of oxygen containing gasses was found to improve film quality, and increasing deposition speed. Moreover improvement in pre-treatment of foreign substrates allowed deposition of fully closed films in less then 100 nm. Low thickness of NCD always favorable due to lattice mismatch between substrate material and NCD film. Successful adoption of NCD film deposition on silicon and glass allowed us to study surface chemical modification for protein attachment and DNA immobilization.
|
|
| |
host ::
RSS.