keywords:"magnetron sputtering" - Výsledky hledání - Digitální repozitář

host :: přihlásit Digitální repozitář
		Hledej		Nový záznam		Nápověda		O repozitáři

Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"magnetron sputtering"

Hledej:

Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání

Hledej ve sbírkách:

Seřadit podle:	Zobrazit výsledky:	Výstupní formát:

	Plazmatická příprava tlustých kovových vrstev pro mechanické rytí blejzovaných difrakčních mřížek Olejníček, Jiří Smluvní výzkum byl zaměřen přípravu a optimalizaci procesu depozice vybraných tlustých kovových vrstev o tloušťce 5 až 10 µm na leštěné skleněné substráty. Ze strany zadavatele byl kladen důraz zejména na mechanické vlastnosti vrstev: adheze, porozita, homogenita, tvrdost a časová stálost. Úplný záznam
	Vytváření tenkých vrstev pro aplikace pokročilých oxidačních procesů s využitím kovových dopantů KRAJČOVIČ, Jan Cílem této diplomové práce bylo nanesení tenkých vrstev TiO2 na různé typy a velikosti substrátů, přičemž některé vrstvy vytvořit s využitím dopantů železa nebo stříbra. V rámci práce byla nanesena řada vrstev TiO2 metodou magnetronového naprašování na aparatuře Dreva ARC 400 Hard Material Coating Plant. Hlavním cílem nanášení těchto vrstev bylo, pokusit se nanést tenké vrstvy TiO2 na substráty o větší ploše, než je při běžných laboratorních procesech běžné. Za tímto účelem byly vrstvy nanášeny na čtvercové skleněné destičky o straně 10 cm. Pro porovnání a zkoumání dalších vlastností nanesených vrstev byly jako substráty použity také mikroskopická sklíčka a úlomky z křemíkových destiček. Na těchto substrátech byla poté testována fotokatalytická aktivita a morfologie nanesených vrstev. Teoretická část této práce je zaměřena na používané metody nanášení tenkých vrstev TiO2 a jejich vlastnosti. V experimentální části je pak popsána použitá aparatura a parametry jednotlivých depozičních procesů. Dále je zde shrnutí vlastností nanesených vrstev a výsledky jednotlivých experimentů. Úplný záznam
	Naprašované vrstvy SiNx:H s leptáním mono-Si povrchu v plazmatickém H2 Hégr, O. ; Boušek, J. ; Fořt, Tomáš ; Sobota, Jaroslav ; Vavruňková, V. ; Bařinka, R. ; Poruba, A. Příspěvek se zabývá čištěním, aktivací a schopností hydrogenace povrchu monokrystalického křemíku plazmatickým leptáním. Za použití vstupních plynů Ar/H2 je možné na křemíkovém povrchu iniciovat chemické reakce působící podobně, jako je tomu při použití standardního chemického leptacího roztoku. Proces je kombinován s depozicí vrstev SiNx:H nanášených na povrch leptaný v plasmě. Úplný záznam
	Magnetron Sputtering in Microwave and Optical Technology Prajzler, V. ; Schröfel, J. ; Hüttel, I. ; Špirková, J. ; Machovič, V. ; Oswald, J. ; Studnička, V. ; Novotná, M. ; Peřina, Vratislav Vlastnosti Galium nitridových vrstev dopovaných erbiem připravených rf magnetronovým naprašováním a jejich vlastnosti v mikrovlnné a optické technologii. Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.

Digitální repozitář :: :: :: ::
Powered by v1.1.2
Spravuje

Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky English