|
|
Adheze a-SiOC:H vrstev na plošných substrátech
Lepcio, Petr ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá přípravou tenkých vrstev plazmových polymerů připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze na plošných substrátech. Jako monomer byl použit tetravinylsilan. Byly připraveny dvě série vzorků. Vzorky první série byly připraveny při různých hodnotách efektivního výkonu z čistého tetravinylsilanu a vzorky druhé série byly připraveny z depoziční směsi tetravinylsilanu s různým obsahem kyslíku při stejném efektivním výkonu. Tloušťka vrstev byla stanovena spektroskopickou elipsometrií a chemická struktura infračervenou spektroskopií. Pro určení míry adheze byla použita vrypová zkouška, ze které byla stanovena kritická normálová síla selhání adheze vrstev. Podoba provedených vrypů byla získána pomocí mikroskopie atomárních sil (AFM). Ze získaných dat byla posouzena možnost zlepšení adheze změnou efektivního výkonu a obsahu kyslíku v depoziční směsi.
|
|
|
Analysis of a-SiOC:H films by selected spectroscopic techniques
Ondreáš, František ; Zmeškal, Oldřich (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This bachelor thesis deals with preparation of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by plasma-enhanced chemical vapour deposition and film characterization by selected spectroscopic techniques. The theoretical part is a background research about plasma chemistry and spectroscopic methods of characterisation of thin plasma polymer films. The practical part consisted of preparation of two series of samples and their characterization. Prepared thin plasma polymer films were characterized by selected spectroscopic techniques. Thickness and optical constants were determined by spectroscopic elipsometry. Chemical structure was characterized by infrared spectroscopy. The results indicate the possibility of managing physico-chemical properties of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by deposition conditions and thus possibility of preparation materials tailored to a variety of applications.
|
|
|
Barierové vrstvy na bázi SiOx
Sedláček, Ondřej ; Dzik, Petr (oponent) ; Přikryl, Radek (vedoucí práce)
Tématem této práce je příprava a charakterizace tenkých vrstev vytvořených pomocí takových metod, jako je vakuové napařování, vakuové napařování v plazmatu a plazmochemická depozice z plynné fáze. Výchozími materiály pro přípravu těchto vrstev jsou práškový oxid křemíku, melamin a hexamethyldisiloxan. Tyto vrstvy byly připravovány s ohledem na jejich využití, jako bariérové povlaky, a to s důrazem na jejich odolnost vůči organickým otravným látkám. U těchto vrstev byla provedena charakteristika jak z hlediska jejich fyzikálních vlastností - schopnost odolávat permeaci určitých organických látek, tak z hlediska jejich chemického složení. Metody použité pro výše zmíněné charakteristiky jsou: FTIR, OTR, elipsometrie, SEM a měření odolnosti vůči permeaci vybraných průmyslových škodlivin.
|
|
| |
|
|
Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD
PEKÁREK, Michal
Cílem této diplomové práce je depozice titan oxidových vrstev metodou PECVD za pomoci vlastního PECVD reaktoru, sestaveného v budově Katedry aplikované fyziky a techniky. Dalším cílem je optimalizace parametrů depozice za cílem vytvoření fotokatalytických TiOx vrstev a srovnání těchto vrstev s dostupným výrobkem Degussa P25. Naměřené výsledky jsou v této práci prezentovány, diskutovány a odpovídají na otázku, zdali je možné metodou PECVD dosáhnout alespoň srovnatelných výsledků, jakých je dosaženo při tvorbě fotokatalytických vrstev pomocí výrobku Degussa P25.
|
|
| |
|
|
Depozice a zpracování uhlíkových nanotrubek připravených metodou PECVD za atmosférického tlaku
Kučerová, Z. ; Zajíčková, L. ; Jašek, O. ; Eliáš, M. ; Synek, P. ; Matějková, Jiřina ; Rek, Antonín ; Buršík, Jiří
Uhlíkové nanotrubky byly syntetizovány metodou PECVD ze směsi argonu, metanu a vodíku v mikrovlnném výboji za atmosférického tlaku. Nanotrubky rostly na křemíkovém substrátu s difúzní bariérou a tenkou vrstvou katalyzátoru Fe. Analýza rastrovací elektronovou mikroskopií (SEM) prokázala přítomnost uhlíkových nanotrubek pokrytých vrstvou tvořenou částicemi katalyzátoru, amorfním uhlíkem a dalšími druhy uhlíkových nanočástic. Jelikož mnohé aplikace vyžadují použití jednotlivých nanotrubek bez nečistot byla značná pozornost věnována čistění a separaci syntetizovaných nanotrubek. Shluky nanotrubek mohou být separovány za pomoci ultrazvuku v organických rozpouštědlech jako je etanol nebo vodě.
|
|
|
Depozice nanokrystalických diamantových vrstev metodou PECVD v mikrovlnném reaktoru typu ASTEX
Jašek, O. ; Karásková, M. ; Buršíková, V. ; Zajíčková, L. ; Franta, D. ; Frgala, Z. ; Matějková, Jiřina ; Rek, Antonín ; Klapetek, P. ; Buršík, Jiří
Nanokrystalické diamantové (NCD) vrstvy byly připraveny depozicí z plynné fáze (CVD) za nízkého tlaku v mikrovlnném plazmatu generovaném v reaktou typu ASTEX. Vrstvy byly připraveny na křemíkových substrátech s orientací (111) ze směsi metanu (9 procent) a vodíku při teplotě substrátu 1090 K. Dodávaný mikrovlnný výkon (2,45 GHz) byl 850 W a pracovní tlak činil 7,5 kPa. Pro účel nukleace byl substrát vystaven vysokofrekvenčnímu výboji, který vytvářel samopředpětí -125 V. Připravené vrstvy vykazovaly velmi malou drsnost (kvadratická odchylka výšek 9,1 nm) a tvrdost a elastický modul dosahovaly hodnot 70 a 375 GPa. Optické konstanty byly určeny pomocí elipsometrie a měření reflexe a vyhodnoceny na základě Rayleigh-Riceovi teorie a disperzního modelu založeného na parametrizaci hustoty stavů. Depoziční rychlost byla 57 nm/min a to včetně 5 minutové nukleační fáze.
|
|
| |
|
| |
host ::
RSS.