|
|
Nové oblasti aplikace ultrazvuku v mikroelektronických technologiích
Buršík, Martin ; Pietriková, Alena (oponent) ; Králová,, Iva (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá depozicí speciálních tixotropních materiálů určených pro mikroelektronické technologie. Cílem práce je vývoj nové metody optimalizace dávkovacího procesu za účelem dosažení rozlišení tisku pod 100 µm. Práce obsahuje vývoj speciální dispensní hlavice (UZD) využívající působení ultrazvukové energie. Doložené výsledky dokumentují možnosti nově vyvinuté metody, která je schopna tisknout tixotropní materiály s rozlišením 65 µm. Oproti jiným metodám dosahuje těchto výsledků s běžně využívanými materiály pro tlustovrstvovou technologii s velikostí částic do 5 µm.
|
|
| |
|
| |
|
|
Planární struktury pro vysoké kmitočty
Pulec, Jiří ; Pietriková, Alena (oponent) ; Maschke, Jan (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Předložená práce se zabýbá problematikou návrhu a technologie planárních mikroelektronických struktur určených pro vysoké kmitočty. Vybrané struktury byly realizovány v laboratořích na Ústavu mikroelektroniky, měření vlastností vybraných struktur potom probíhalo na Ústavu radioelektroniky. Součástí práce je i simulace vybraných struktur, přičemž k těmto simulacím byl použit návrhový systém Ansoft Designer a výpočetní systém ANSYS. Pozornost je věnována diskrétním prvkům (cívkám a kondenzátorům), kmitočtovým filtrům v planární a hybridní technologii a mikrovlnným filtrům v planárním uspořádání. Práce přináší nové poznatky v oblasti návrhu a technologie diskrétních prvků i komplexnějších obvodů (filtrů), tyto poznatky potom mohou být dále využity jako podklad pro další výzkum i pro praktické realizace.
|
|
|
Planární struktury pro vysoké kmitočty
Pulec, Jiří ; Pietriková, Alena (oponent) ; Maschke, Jan (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Předložená práce se zabýbá problematikou návrhu a technologie planárních mikroelektronických struktur určených pro vysoké kmitočty. Vybrané struktury byly realizovány v laboratořích na Ústavu mikroelektroniky, měření vlastností vybraných struktur potom probíhalo na Ústavu radioelektroniky. Součástí práce je i simulace vybraných struktur, přičemž k těmto simulacím byl použit návrhový systém Ansoft Designer a výpočetní systém ANSYS. Pozornost je věnována diskrétním prvkům (cívkám a kondenzátorům), kmitočtovým filtrům v planární a hybridní technologii a mikrovlnným filtrům v planárním uspořádání. Práce přináší nové poznatky v oblasti návrhu a technologie diskrétních prvků i komplexnějších obvodů (filtrů), tyto poznatky potom mohou být dále využity jako podklad pro další výzkum i pro praktické realizace.
|
|
| |
|
| |
|
|
Nové oblasti aplikace ultrazvuku v mikroelektronických technologiích
Buršík, Martin ; Pietriková, Alena (oponent) ; Králová,, Iva (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá depozicí speciálních tixotropních materiálů určených pro mikroelektronické technologie. Cílem práce je vývoj nové metody optimalizace dávkovacího procesu za účelem dosažení rozlišení tisku pod 100 µm. Práce obsahuje vývoj speciální dispensní hlavice (UZD) využívající působení ultrazvukové energie. Doložené výsledky dokumentují možnosti nově vyvinuté metody, která je schopna tisknout tixotropní materiály s rozlišením 65 µm. Oproti jiným metodám dosahuje těchto výsledků s běžně využívanými materiály pro tlustovrstvovou technologii s velikostí částic do 5 µm.
|
host ::
RSS.