|
|
Difraction in a scanning electron microscopie
Řiháček, Tomáš ; Mika, Filip ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Müllerová, Ilona
Manipulation with the primary beam phase in a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM) has drawn significant attention in the microscopy community in the recent years. Although a few applications were found long before, some are still subjects of a future research. One of them is the use of electron vortex beams, which has very promising potential. It ranges from probing magnetic materials and manipulating with nanoparticles to spin polarization of a beam in an electron microscope.\nThe methods for producing electron vortex beams have undergone a lot of development in recent years as well. The most versatile way is holographic reconstruction using computer-generated holograms modifying either phase or amplitude. As the method is\nbased on diffraction, beam coherence is a very important parameter here. It is usually performed in TEM at energies of about 100 – 300 keV which are well suited for diffraction on artificial structures for two reasons. The coherence of the primary beam is often reasonable, and the diffraction pattern is easily observed. This is however not the case for a standard scanning electron microscope (SEM) with typical energy up to 30 keV.
|
|
|
Large-area gray-scale structures in e-beam writer versus area current homogeneity and deflection uniformity
Kolařík, Vladimír ; Horáček, Miroslav ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Bok, Jan
The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to the exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale lithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and beam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field,\nwe can observe disturbances in the exposed relief for both nowadays types of e-beam writers, the shaped e-beam writing system and the Gaussian e-beam writing system. A stable and homogeneous angular current density distribution in the spot is important especially in the case of shaped e-beam lithography systems. A non-homogeneity of the spot over deflection field is seen alongside the field boundaries of both lithography systems.
|
|
|
Studium vlastností periodických mřížek vytvořených elektronovou litografii
Krátký, Stanislav ; Opletal, Petr (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá procesem tvorby reliéfních periodických struktur pomocí elektronové litografie. Popisuje, jak navrhnout tyto struktury pomocí počítače a následně je vytvořit elektronovým litografem. Dále se zabývá metodami, kterými můžeme tyto struktury měřit a vyhodnocovat. Tyto metody jsou použity k měření a vyhodnocení binárních periodických mřížek a pomocí získaných dat je stanovena závislost hloubky mřížky na její periodě. Práce se dále zabývá měřením difrakční účinnosti na zhotovených mřížkách a srovnáním závislostí jejich difrakční účinností na hloubce mřížky.
|
|
|
Technologie leptání křemíku
Krátký, Stanislav ; Ježek,, Jan (oponent) ; Matějka, Milan (vedoucí práce)
Tato práce se zabývá technologií mokrého a suchého leptání křemíku. Zkoumá se použití vodného roztoku hydroxidu draselného. V suchých technikách se práce zaměřuje na plazmatické leptání křemíku směsí CF4+O2. U obou leptacích procesů jsou stanoveny důležité parametry leptání, jako je rychlost leptání křemíku, maskovacího materiálu, selektivita leptání, drsnost povrchu a podleptání masky. Řeší se zde i další pomocné a přípravné práce v technologii leptání. Konkrétně jde o vytváření masky v rezistu a v oxidu křemíku, litografii a leptání rezistu za pomoci kyslíkové plazmy.
|
|
|
Pozorování izolantů v ESEM
Matějka, Milan ; Špinka, Jiří (oponent) ; Jirák, Josef (vedoucí práce)
Diplomová práce se v teoretické části zabývá principem a problematikou detekce signálních elektronů v rastrovací elektronové mikroskopii a problematikou projevů nabíjení izolačních vzorků. V experimentální části je popsána metodika kvalifikace a kvantifikace projevů nabíjení izolačního vzorku pozorovaném v environmentálním rastrovacím mikroskopu pomocí ionizačního a scintilačního detektoru v závislosti na tlaku vodních par v komoře vzorku. Cílem práce je vytvoření metodiky vhodné pro vyhodnocení nabíjecích projevu při pozorování u izolačních vzorku a na základě měření, stanovení optimálních podmínek pozorování izolantů v EREM pro ionizační a scintilační detektor.
|
|
| |
|
|
SMV-2015-15: Vývoj amplitudově fázové masky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, vývoj technologických postupů pro přípravu kombinované fotošablony, která zpracovává současně amplitudu i fázi procházejícího světla, ověření optických vlastností takové fotošablony.
|
|
|
SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém, napájecí a řídící elektroniku.
|
|
|
SMV-2015-13: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Horáček, Miroslav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
|
SMV-2015-12: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
host ::
RSS.