|
|
Phyllotactic Model Linking Nano and Macro World
Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, Michal ; Bok, Jan ; Kolařík, Vladimír
Recently, the arrangement of diffraction primitives according to a phyllotactic model was presented. This arrangement was used to benchmarking purposes of the e-beam writer nano patterning. The phyllotactic arrangement has several interesting properties. One of them is related with the coherence between the nanoor microscopic domain of individual optical primitives and the properties of visually perceived images crated by these structures in the macro domain. This paper presents theoretical analysis of the phyllotactic arrangement in the referred context. Different approaches enabling the creation of diffractive optically variable images are proposed. The practical part of the presented work deals with the nano patterning of such structures using two different types of the e-beam pattern generators. One of them is a system with a variable shaped beam of electrons, while the other one is a system with a Gaussian-shaped beam. E-beam writing strategies and the use of inherent spiral patterns for exposure ordering and partitioning are also discussed.
|
|
|
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Šerý, Mojmír
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik.
|
|
| |
|
| |
|
| |
|
|
Vývoj aplikace na přípravu dat pro elektronový litograf
Meluzín, Petr
Vývoj aplikace na přípravu dat pro elektronový litograf. Diplomová práce. Brno, 2016. Diplomová práce se zabývá problematikou přípravy dat pro elektronový litograf. V úvodní části se zabývá všeobecně elektronovou litografií, možnostmi a problémy přípravy dat a elementy difraktivní optiky. Dále popisuje vývojové prostředí, které bylo použito pro vývoj vlastní aplikace. Poté se práce zabývá vhodným návrhem aplikace a přívětivého uživatelského prostředí. Výstupem práce je implementace navržené aplikace.
|
|
| |
|
| |
|
|
SMV-2015-15: Vývoj amplitudově fázové masky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, vývoj technologických postupů pro přípravu kombinované fotošablony, která zpracovává současně amplitudu i fázi procházejícího světla, ověření optických vlastností takové fotošablony.
|
|
|
SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém, napájecí a řídící elektroniku.
|
host ::
RSS.