Název:
Výroba a charakterizace plazmonických nanostruktur
Překlad názvu:
Fabrication and characterization of plasmonic nanostructures
Autoři:
Bačo, Ondřej ; Kvapil, Michal (oponent) ; Dvořák, Petr (vedoucí práce) Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok:
2018
Jazyk:
cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze][eng]
Předkládaná bakalářská práce se zabývá přípravou a charakterizací plazmonických nanostruktur. Pro přípravu těchto struktur byl použit grafen na dopovaném křemíkovém substrátu s 285nm vrstvou oxidu křemičitého. Grafenové pruhy o šířce řádově stovek nanometrů byly vyrobeny za použití metod elektronové litografie (EBL) a reaktivního iontového leptání (RIE). Jednotlivé fáze přípravy byly monitorovány pomocí optické mikroskopie a mikroskopie atomárních sil (AFM). Vlastnosti výsledných grafenových nanostruktur byly charakterizovány rastrovacím elektronovým mikroskopem (SEM) a infračerveným spektrometrem s Fourierovou transformací (FTIR).
This bachelor thesis deals with fabrication and characterization of plasmonic nanostructures. Graphene on a doped silicon substrate with a 285 nm thick layer of silicon dioxide was used for fabrication of these structures. Graphene ribbons with width in the order of hundreds of nanometers were prepared using electron beam lithography (EBL) and reactive ion etching (RIE). Steps in fabrication process were monitored utilizing optical and atomic force microscopy (AFM). Prepared graphene nanostructures were characterized with scanning electron microscope (SEM) and Fourier transform infrared spectrometer (FTIR).
Klíčová slova:
AFM; EBL; FTIR; grafen; plazmonika; RIE; SEM; AFM; EBL; FTIR; graphene; plasmonics; RIE; SEM
Instituce: Vysoké učení technické v Brně
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/83744