Original title:
Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag
Translated title:
Preparation of Ag/Co/Ag Trilayers
Authors:
Burda, Pavel ; Kolíbal, Miroslav (referee) ; Čechal, Jan (advisor) Document type: Bachelor's theses
Year:
2010
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství Abstract:
[cze][eng]
Bakalářská práce je věnována přípravě a studiu ultratenkých vrstev stříbra a kobaltu. Z těchto materiálů jsou tvořeny vrstvy na křemíkových substrátech. Substráty tvoří povrchově upravený krystalický křemík (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) a amorfní SiO2 ve formě křemenného skla. Růst vrstev je prováděn pomocí epitaxe molekulárním svazkem (MBE) za využití efuzní cely. Na vzorek připravený z uvedených substrátů je postupně deponována vrstva stříbra, poté kobaltu a stříbra. Tloušťka každé vrstvy je 6 nm. Vrstvy jsou studovány užitím metod rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) a mikroskopie atomárních sil (AFM). Typ růstu vrstvy se zásadně liší u různých povrchových úprav substrátu. Výsledkem jsou připravené trojvrstvy Ag/Co/Ag na SiO2/Si(111) a Si(111) 7×7, které lze využít v oblasti plazmoniky a lze magnetickým polem ovlivnit chování povrchových plazmonových polaritonů.
The Bachelor's thesis is aimed to the preparation of silver and cobalt ultrathin films. The films are formed on modified surfaces of crystalline silicon substrates (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) and amorphous SiO2 in a form of a quartz glass. Thin films are grown using an effusion cell for Molecular Beam Epitaxy (MBE). Surface modified surfaces are covered subsequently by a silver, cobalt and silver thin layer. The individual film thickness is 6 nm. Consequently the samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and the Atomic Force Microscopy (AFM). The morphology of thin films and growth modes are compared among the substrates. Growth modes change with the surface modification type. Complete trilayer system Ag/Co/Ag was prepared on SiO2/Si(111) and Si(111) 7×7. Such system can be employed in plasmonics in order to allow the control of surface plasmon polariton properties by an external magnetic field.
Keywords:
AFM; Ag; cobalt; MBE; Si; silicon; silver; SiO2; thin film growth; trilayer; XPS; AFM; Ag; kobalt; křemík; MBE; růst tenkých vrstev; Si; SiO2; stříbro; trojvrstva; XPS
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/14113