Original title:
Aplikace surfatronového výboje v plazmochemických aplikacích
Translated title:
Application of Surfatron Discharge in Plasmachemistry Processes
Authors:
HROMÁDKO, Tomáš Document type: Master’s theses
Year:
2008
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Tato diplomová práce se zabývá využitím plazmochemických reakcí v technologických aplikacích, především při depozici tenkých vrstev a jejich následnou diagnostikou. V úvodní části práce jsou popsány základní teoretické aspekty fyziky plazmatu. Jsou zde uvedeny vztahy mezi teplotou, tlakem a typem výboje a fyzikální principy vzniku a udržení plazmatu. Následující kapitola se věnuje zdrojům plazmatu generovaným mikrovlnným polem, speciálně surfatronu. Experimentální část diplomové práce byla provedena právě s použitím surfatronového výboje. V poslední teoretické části jsou popsány různé typy reaktorů využívaných při depozici a metody diagnostiky tenkých vrstev, především AFM mikroskopie a rentgenová difrakce. Praktická část se sestávala hlavně z přípravy a depozice tenkých vrstev oxidu TiO2 různé tloušťky a vlastností. V následné diagnostice vzorků, provedené ve spolupráci s Fyzikálním ústavem Akademie věd v Praze, je srovnán vztah mezi dobou depozice a vlastnostmi vrstev jako je tloušťka či drsnost povrchu. V práci je popsán také vliv teplotního žíhání vzorku na jeho fotoaktivitu.This diploma thesis deals utilization of plasma {--} chemical reactions in technological applications, mainly at deposition of thin films and their sequential diagnostics. Introduction describes basis of theoretic aspects of plasma physics. There are discussed relations between temperature, pressure and type of discharge and physical principles of creation and preservation of plasma. Next chapter is focused on description of source of plasmatic discharges generated by microwave field, specially the surfatron. Experimental part was made just with utilization of surfatron discharge. In the last theoretic part are presented various types of reactors used in deposition of thin films and methods of diagnostics of thin films, mainly atomic force microscopy and X {--} ray diffraction. Practical part consisted of preparation and deposition of TiO2 thin films with different thickness and properties. Deposited samples were diagnosed in Institute of Physics the Academy of Science of the Czech Republic in Prague. Relations between time of deposition and films properties, example thickness and relative roughness, are the main part of discussion. In this work is described influence of thermal annealing on photo-electrics properties, too. Citation: HROMÁDKO, Tomáš. Aplikace surfatronového výboje v plazmochemických aplikacích. České Budějovice, 2008. diplomová práce (Mgr.). JIHOČESKÁ UNIVERZITA V ČESKÝCH BUDĚJOVICÍCH. Pedagogická fakulta
Institution: University of South Bohemia in České Budějovice
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Digital Repository of University of South Bohemia. Original record: http://www.jcu.cz/vskp/6574