Original title:
Elektronová litografie na nevodivých substrátech
Translated title:
Electron beam lithography on non-conductive substrates
Authors:
Hovádková, Zuzana ; Šamořil, Tomáš (referee) ; Dvořák, Petr (advisor) Document type: Bachelor's theses
Year:
2018
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství Abstract:
[cze][eng]
Elektronová litografie zažívá v posledních letech velký rozmach, zejména díky možnosti vytvořit velké struktury s přesným rozlišením. Tato práce se zabývá elektronovou litografií na nevodivých substrátech, a to konkrétně na skle. Litografie na skle má využití zejména v biologii, kde je potřeba transparentních substrátů pro světlo, které jsou zároveň netoxické pro růst buněk. V experimentální části jsou ukázány dva způsoby kompenzace akumulovaného náboje a porovnány možnosti jejich dalšího využití.
The expansion of electron beam lithography has been really fast during last years. It is mostly because its capability to create big structures with a fine resolution. This study focuses on electron beam lithography on non-conductive substrates, exactly on glass. The lithography on glass is mostly used in life sciences. Because of the transparence of the substrate and its non-toxicity it can be used for cell adhesion. In the experimental section there are shown and compared two techniques how to compensate the charge accumulated on the top of the surface.
Keywords:
charging effect; deposition of conductive layer; Electron beam lithography (EBL); scanning electron microscopy (SEM); spin coating; variable pressure electron beam lithography (VP EBL); depozice vodivé vrstvy; efekt nabíjení; elektronová litografie za variabilního tlaku (VP EBL); Litografie elektronovým svazkem (EBL); skenovací elektronová mirkoskopie (SEM); spin coating
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/83773