Original title:
Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii
Translated title:
Comparison of properties of thin layers of titanium, nickel and silver used in semiconductor technology
Authors:
Dorotík, David ; Prášek, Jan (referee) ; Hejátková, Edita (advisor) Document type: Bachelor's theses
Year:
2018
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Abstract:
[cze][eng]
Bakalářské práce byla spojená s poznáním všeobecné problematiky nanášení tenkých vrstev metodami napařování a naprašování. Přípravou substrátu a jeho čištění před deponováním tenkých vrstev. Práce byla zaměřena na vlastnosti těchto tenkých vrstev v polovodičové technologii.
Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology.
Keywords:
evaporation; semiconductor technology; Sputtering; thin films; Napařování; naprašování; polovodičová technika; tenké vrstvy.
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/81747