Original title: Vlastnosti TIO.sub.x./sub. vrstev deponované za atmosférického tlaku
Translated title: Properties of TIO.sub.x./sub. films deposited at atmosphere pressure
Authors: Sedláková, L. ; Hubička, Zdeněk ; Churpita, Olexandr ; Stranyánek, Martin ; Čtvrtlík, Radim ; Špatenka, P.
Document type: Papers
Conference/Event: Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./, Brno (CZ), 2005-11-23 / 2005-11-24
Year: 2005
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
TIO.sub.x./sub. byli deponovány za použití RF bariérového pochodňového výboje, který pracuje za atmosférického tlaku a při nízké teplotě substrátu. Jako prekurzor byly použity páry Titanium (IV) isopropoxide Ti[OCH(CH..sub.3./sub.).sub.2./sub.].sub.4./sub. a jako substrát křemenné sklo.Depoziční podmínky při tvorbě vrstev byly u všech vzorků stejné. Byly zkoumány vlastnosti vrstev v závislosti na teplotě žíhání po depozici. U vrstev byla hodnocena tloušťka, anotvrdost, krystalinita vrstev metodou XRD difrakce a rychlost fotokatalytické degradace. TiOx films were deposited on silica glass by RF discharge in atmosphere pressure at low substrate temperature. Some properties of the films were studied depending on annealing temperature after deposition. The thickness, nanohardness, crystallinity and speed of photocatalysis degradation were investigated.
Keywords: TIO.sub.x./sub. vrstvy; XRD difrakce
Project no.: CEZ:AV0Z10100522 (CEP)
Host item entry: Progresívní a netradiční technologie povrchových úprav /2./, ISBN 80-239-6135-7

Institution: Institute of Physics AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0144154

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-36771


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Physics
Conference materials > Papers