Original title: Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie
Translated title: Manufacturing of Relief Diffractive Structures for Optical Elements Using Electron Beam Lithograph
Authors: Daněk, Lukáš ; Urban, František (referee) ; Klapetek,, Petr (referee) ; Kolařík, Vladimír (advisor)
Document type: Doctoral theses
Year: 2009
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract: [cze] [eng]
Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600. This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.
Keywords: Electron beam lithography Electron beam writer BS600 Diffractive structures; Elektronová litografie Elektronový litograf BS600 Difraktivní struktury

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/6505

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-233484


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Doctoral theses