Original title: Chemická pasivace povrchu křemíkových desek pro solární články
Translated title: Chemical passivation of surface for silicon solar cells
Authors: Solčanský, Marek ; Hégr, Ondřej (referee) ; Boušek, Jaroslav (advisor)
Document type: Master’s theses
Year: 2009
Language: slo
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract: [slo] [eng]
Táto diplomová práca sa zaoberá skúmaním rôznych druhov roztokov pre chemickú pasiváciu kremíkového povrchu na testovacie účely kremíkových rezov s ich následným porovnaním. Hlavnou úlohou práce je nájsť optimálny roztok, ktorý vyhovuje požiadavkám časovej stability a rýchlosti nábehu pasivačných schopností roztoku, reprodukovatežnosti merania a možnosti dokonalého oplachu zbytkov pasivačného roztoku z kremíkového povrchu, aby po opätovnom vrátení kremíkovej dosky do výrobného procesu nedochádzalo k zhoršeniu vlastností meranej kremíkovej dosky a kontaminácii celej série vyrábaných solárnych článkov, pričom oplachovacia metóda po chemickej pasivácii je takisto predmetom skúmania. This master´s thesis deals with an examination of different solution types a for the chemical passivation of a silicon surface. Various solutions are tested on silicon wafers for their consequent comparison. The main purpose of this work is to find optimal solution, which suits the requirements of a time stability and start-up velocity of passivation, reproducibility of the measurements and a possibility of a perfect cleaning of a passivating solution remainig from a silicon surface, so that the parameters of a measured silicon wafer will not worsen and there will not be any contamination of the other wafers series in the production after a repetitive return of the measured wafer into the production process. The cleaning process itself is also a subject of a development.
Keywords: chemical passivation; iodine passivation; measurement of minority carrier lifetime; method MW PCD (Microwave Photoconductivity Decay); passivation of a silicon surface; quinhydrone; simulation program PC1D

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/7365

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-217864


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Master’s theses