Original title: Studium tloušťky tenkých vrstev organických materiálů
Translated title: Study of thin film organic materials thickness
Authors: Hegerová, Lucie ; Veselý, Michal (referee) ; Zmeškal, Oldřich (advisor)
Document type: Master’s theses
Year: 2008
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract: [cze] [eng]
Diplomová práce se zabývá stanovením tloušťky a indexu lomu tenkých vrstev organických filmů s použitím obrazové analýzy. V teoretické části jsou popsány principy metod, které jsou používány k přípravě tenkých vrstev (rotační nanášení, inkoustový tisk, vakuové napařování), vlastnosti tenkých vrstev, způsoby zjišťování tloušťky a indexu lomu látek (metody váhové, metody elektrické, metoda založená na měření koeficientu absorpce světla, interferenční mikroskopie, elipsometrie) a také obrazová analýza (harmonická a waveletová analýza) Pro stanovení tloušťky a indexu lomu byl použit interferenční mikroskop Epival – Interpako (Carl Zeiss Jena) v kombinaci s digitálním fotoaparátem Nikon Coolpix 5400 a počítačem. Byly určeny tloušťky vrstev z interferenčních obrazců hran a rýh a to jak ze strany kovového kontaktu tak i ze strany podložního sklíčka. Ze získaných hodnot byly určovány indexy lomu tenkých vrstev. V závěru práce jsou diskutovány výsledky interferenčních obrazců fotografovaných po celé délce hliníkového kontaktu určeném pro měření elektrických vlastností struktur s DPP. Výsledkem jsou pak tloušťky jednotlivých vrstev struktury (indexy lomu). The diploma thesis deals with the determination of thickness and refractive index of thin organic films using image analysis. In the theoretical part there are described principles of the methods, which are used to prepare the films (spin coating, inkjet printing, vapour deposition), the characteristics of thin films, ways of finding out the thickness and refractive index of substances (weight methods, electric methods, method based on measurement of absorption coefficient of light, interference microscopy, ellipsometry) and also image analysis (harmonic and wavelet analysis). Interference microscope Epival - Interpako (Carl Zeiss Jena), digital camera Nikon Coolpix 5400 and computer were used for the determination of thickness and refractive index. The thicknesses of layers were set on the basis of interference images of edges and grooves – both from the side of the metal contact and the side of underlying glass. The refractive indices of thin layers were then set using the recorded figures. In the final part of the thesis there are discussed the results of interference images photographed along the full length of the aluminium contact which are used for measuring electrical characteristics of DPP structures. The produces are thicknesses and refractive indices of individual layers.
Keywords: ellipsometry; image analysis; inkjet printing; interference microscopy; refractive index; spin coating; the characteristics of thin films; thickness of the layer; thin layers; vapour deposition; elipsometrie; index lomu; inkoustový tisk; interferenční mikroskopie; obrazová analýza; spin coating; tenké vrstvy; tloušťka vrstev; vakuové napařování; vlastnosti tenkých vrstev

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/11817

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-216429


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Master’s theses