Original title: Příprava nanostruktur pomocí mokrého chemického leptání
Translated title: Fabrication of nanostructures using wet chemical etching
Authors: Musálek, Tomáš ; Šamořil, Tomáš (referee) ; Kolíbal, Miroslav (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2014
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract: [cze] [eng]
Tato bakalářská práce se zabývá mokrým anizotropním leptáním křemíku a germania. Ukazuje dva možné přístupy tvorby anizotropních leptů a popisuje pomocné práce nutné k samotnému leptání. Jedná se zejména o přípravu masky elektronovou litografií, odleptání SiO2 resp. GeO2 a nanášení kovových částic. This bachelor's thesis deals with wet anisotropic etching of silicon and germanium. Two different approaches to the formation of anisotropic etch pits are shown. The supporting activities required for etching procedure are described. Especially, preparation of mask by electron beam litography, etching of SiO2 resp. GeO2 and application of metal particles.
Keywords: anisotropic etching; electron beam litography; germanium; metal nanoparticles.; Silicon; anizotropní leptání; elektronová litografie; germanium; kovové nanočástice.; Křemík

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/33361

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-214485


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses