Original title:
Příprava a charakterizace vzorků pro studium vlivu povrchových plasmonových polaritonů na růst ostrůvků na površích
Translated title:
Preparation and characterization of samples for a study on the effect of surface plasmon polaritons on island growth on surfaces
Authors:
Závodný, Adam ; Kolíbal, Miroslav (referee) ; Čechal, Jan (advisor) Document type: Bachelor's theses
Year:
2014
Language:
cze Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství Abstract:
[cze][eng]
Tato bakalářská práce se zabývá přípravou a studiem růstu tenkých vrstev kobaltu a termální stabilitou multivrstvy Al2O3/Au/SiO2/Si. Jako substrát pro růst tenkých vrstev byl použit krystalický křemík povrchově upraven dvěma způsoby: SiO2/Si(111) a Al2O3/SiO2/Si(111). Růst vrstev byl prováděn pomocí efuzní cely. Růst kobaltových vrstev je zkoumán v závislosti na depoziční teplotě substrátu, typu substrátu a množství deponovaného materiálu. Připravené vrstvy jsou studovány použitím rentgenové fotoelektronové spektroskopie, rastrovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.
This bachelor's thesis deals with preparation and analysis of cobalt thin films and determination of the thermal stability of Al2O3/Au/SiO2/Si multilayer. The films are formed on the crystalline silicon with oxide surface layer, i.e. SiO2/Si(111) and Al2O3/SiO2/Si(111). Thin films are prepared using an effusion cell and their growth is studied as a function of substrate temperature, type and layer thickness. Prepared samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy, Scanning Electron Microscopy and Atomic Force Microscopy.
Keywords:
AFM; aluminium oxide; cobalt; MBE; SEM; silicon; silicon dioxide; thin film growth; XPS; AFM; kobalt; křemík; MBE; oxid hlinitý; oxid křemičitý; růst tenkých vrstev; SEM; XPS
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/33356