Original title: Analýza emisních čar v čistícím a plazmovém výboji v naprašovacím stroji UPM810
Translated title: Analyse of Emission Lines in Sputter Machine UPM 810
Authors: Oupický, Pavel
Document type: Papers
Conference/Event: Člověk ve svém pozemském a kosmickém prostředí/34./, Úpice (CZ), 2013-05-14 / 2013-05-16
Year: 2014
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
V článku je analyzováno spektrum čisticího a plazmového výboje v naprašovacím stroji UPM810. Jako konkrétní příklad je proveden pokus o analýzu spektra naměřeného spektrometrem USB2000 při naprašování křemíku v argonové atmosféře There is analysed in this paper the spectrum in the sputtering machine UPM810 by the sputtering of Si in the argon atmosphere by using of spectrometer USB2000
Keywords: broadening; Emission lines; gas; measuring; profile; temperature
Host item entry: Člověk ve svém pozemském a kosmickém prostředí. Bulletin referátů z konference, ISBN 978-80-86303-38-3

Institution: Institute of Plasma Physics AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0234787

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-174840


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Plasma Physics
Conference materials > Papers