Název: Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie
Překlad názvu: Manufacturing of Relief Diffractive Structures for Optical Elements Using Electron Beam Lithograph
Autoři: Daněk, Lukáš ; Urban, František (oponent) ; Klapetek,, Petr (oponent) ; Kolařík, Vladimír (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Disertační práce
Rok: 2009
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600. This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.
Klíčová slova: Elektronová litografie Elektronový litograf BS600 Difraktivní struktury; Electron beam lithography Electron beam writer BS600 Diffractive structures

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/6505

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-606146


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Disertační práce