Název: Elektrochemické metody přípravy kovokeramických oxidačně odolných vrstev
Překlad názvu: Oxidation barriers prepared by electrochemical procedures
Autoři: Šťastná, Eva ; Pouchlý, Václav (oponent) ; Jan, Vít (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok: 2016
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Na vzorcích z čistého hliníku (99,99+ %, VÚK čisté kovy, s. r. o.) a na vzorcích čistého titanu (99,95 %, Goodfellow) s vrstvou naprášeného hliníku (99,99 %, VÚK čisté kovy, s. r. o.) byl proveden technologický postup s cílem připravit oxidačně a tepelně odolnou kovokeramickou vrstvu. Na vzorcích byla prostřednictvím anodizace v kyselině šťavelové připravena oxidická vrstva s jemnými, hexagonálně uspořádanými póry o průměru 30 nm. Během dalšího zpracování vzorků byla struktura uzpůsobena pro elektrochemickou depozici mědi do pórů. Cílem elektrodepozice bylo vytvoření měděných nanodrátů nanesených do pórů oxidické vrstvy. Proces probíhal v roztoku síranu měďnatého a kyseliny sírové ve vodě. Řídícím parametrem depozice bylo napětí, jež mělo výrazně asymetrický průběh periody, kterou bylo nutné pro úspěšné vytvoření drátů optimalizovat. Výsledkem celého procesu byla struktura s oxidickou matricí, jejíž póry byly z velké části zaplněny mědí. A process with aim to prepare an oxidically and thermal resistant layer was performed on the samples from clear aluminium (99,99+ %, VÚK čisté kovy, s. r. o.) and on the samples from clear titanium (99,95 % Goodfellow) with a layer from sputtered aluminium (99,99 %, VÚK čisté kovy, s. r. o.), An oxidic layer was prepared on the samples by anodization in the oxalic acid. The layer had fine, hexagonally organized pores with the diameter of 30 nm. During the following processing was the structure prepared for the electrochemical deposition of copper to the pores. The aim of the electrodeposition was preparation of copper nanowires deposited into the pores of the oxidic layer. The process was performed in the solution of copper sulfate and sulfuric acid in water. The controlling parameter of the deposition was voltage which had a very asymmetric period. The period had to be optimized for a successful preparation of the wires. The result of the whole process was structure with oxidic matrix whose most of the pores were filled with copper.
Klíčová slova: AAO; anodizace; anodizovaný oxid hlinitý; elektrodepozice; nanodráty; AAO; anodization; anodized alumina; electrodeposition; nanowires

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/60827

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-599186


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Diplomové práce