Název: Mechanické a elektrické vlastnosti tenkých kovových vrstev nanášených vakuovým napařováním
Překlad názvu: Mechanical and Electrical Properties of Thin Metal Films Deposited by Vacuum Evaporation
Autoři: W. F. Yahya, Doaa ; Kolařík, Vladimír (oponent) ; Štencl,, Jiří (oponent) ; Šandera, Josef (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Disertační práce
Rok: 2015
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Tenké vrstvy mají velké uplatnění v mnoha odvětvích techniky a v současné době můžeme konstatovat, že je najdeme ve všech moderních technologiích. Tenké vrstvy je možné vytvářet dvěma způsoby, a to chemickou nebo fyzikální cestou. Tato práce se zaměřuje na druhý uvedený způsob, přesněji tedy na technologii napařování tenkých vrstev ve vakuu. Práce se zaměřuje na principy procesu, jevy během napařování a po něm. V práci jsou uvedeny originální měření a technologické postupy. Experimenty objasňují některé z jevů, které se odehrávají na tenkých vrstvách vytvořených již zmíněnou technologií. Práce pomáhá lépe pochopit pochody během vytváření tenké vrstvy a vlastnosti, které ovlivňují kvalitu a stabilitu tenkých vrstev. V závěru jsou popsány výsledky experimentů a jsou zde také shrnuty nové poznatky v oblasti nanášení tenkých vrstev pomocí napařování ve vakuu. Thin layers are widely used in many fields of technology and today we can say that they are found in all modern technologies. Thin layers can be created in two ways, namely by chemical or physical means. This work focuses on the latter method, more particularly a technology of thermal evaporation of thin layers in a vacuum. The work focuses on the process principles during and after the evaporation. Much of the work focuses on the development and design of experiments. These experiments illustrate some of the phenomena that take place on thin films produced by the aforementioned technology. Work helps to better understand processes during formation of thin layers and properties that influence the quality and stability of thin films. In conclusion we describe results of experiments and new developments in the field of thin films deposition using evaporation under vakuum are summarized.
Klíčová slova: elektrická vodivost; kovová vrstva; napařovaný materiál; parylén; recipient; teplota; teplotní cyklovaní.; teplotní stabilita; tlak; Vakuové napařování; výparník; vývěva; air-pump; electrical conductivity; evaporation material; layer; parylene; pressure; recipient; temperature; temperature cycling.; temperature stability; Vacuum evaporation; vaporizer

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/51837

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-590399


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Disertační práce