Název: Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria
Překlad názvu: Thermal stability of sputtered yttrium oxide layers
Autoři: Kršňák, Jiří ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Hégr, Ondřej (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Bakalářské práce
Rok: 2009
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato práce se zabývá chováním naprášené tenké vrstvy oxidu yttria po teplotním namáhání. V rámci řešení byly deponovány tenké vrstvy oxidu yttria na křemíkové substráty, které byly vystavovány různým cyklům teplotního namáhání. Testované struktury byly zkoumány před a po teplotním namáhání z hlediska stability povrchové topografie za pomoci elektronové mikroskopie. This work deals with behavior of deposited yttrium oxide thin film after heat stress. Within solution thin yttrium oxide films were deposited at silicon substrates, which were exposed to various cycles of heat stress. Tested structures were investigated before and after heat stress in term of surface topography stability with the hepl of electron microscopy.
Klíčová slova: magnetronové naprašování; oxid yttria; rastrovací elektronový mikroskop; vysokofrekvenční naprašování; magnetron sputtering; radiofrequency sputtering; scanning electron microscopy; yttrium oxide

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/901

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-556262


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Bakalářské práce