Název:
RF plasma deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O.SUB.2 gas mixtures
Autoři:
Peřina, Vratislav ; Janča, J. Typ dokumentu: Příspěvky z konference Konference/Akce: Symposium on Plasma Physics and Technology /17./, Prague (CZ), 1995-06-13 / 1995-06-16
Rok:
1995
Jazyk:
eng Zdrojový dokument: Proceedings of 17th Symposium on Plasma Physics and Technology
Instituce: Ústav jaderné fyziky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0080038