Original title: Kvalifikace depoziční pece
Translated title: Characterization of VTR-7000 deposition furnace
Authors: Petrová, Lenka ; Ulrych, Jan (referee) ; Semiconductor, Vlastimil Hanáček, ON (advisor)
Document type: Bachelor's theses
Year: 2009
Language: eng
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract: [eng] [cze]
Tato práce je zaměřena na problém nastavení CVD pece pro produkci ve výrobním závodu. Problém je, že přesná zařízení jako depoziční pece musíbýt pro produkci nastaveny až na místě, kde budou provozovány. Toho je možno docílit pomocí statistických nástrojů jako například DOE (design of experiment). Vstupní hodnoty procesu ovlivňují výstupy. Úkolem DOE je definovat, jakým způsobem. Z předchozího DOE provedeného v závodě COM1 vyplývají některá nastavení proměnných. Jiné proměnné musí být nastaveny dle předchozích zkušeností. Úkolem práce je seznámit čtenáře se základy depozice z plynné fáze a konceptem DOE. Následně je navržen vlastní experiment. Tento je vyhodnocen a výstupem práce je pak ideální nastavení reaktoru. Čtenáři bude též nepřímo představen proces DMAIC, který byl použit při samotném experimentu a vyhodnocování v ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB. This bachelor’s thesis deals with the problem of adjusting of a CVD (chemical vapor deposition) reactor for operations in a given plant. The problem is that precise machines such as a CVD reactor have to be adjusted for function in the place, where they will be operated. This can be done by using statistical tools such as the DOE (design of experiment). There is a range of inputs that can affect the results of the deposition process. From these some will have to be selected as constants and some will become variables in the DOE. The target of this project is to introduce the reader to the topic of CVD, then, from previous DOE done on such machine in the COM1, design an experiment to adjust the machine in CZ4 WFAB for production, evaluate the acquired data and obtain the ideal setting for the reactor. The reader will be indirectly introduced also to DMAIC process since the DMAIC was used to evaluate the actual experiment in ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB.
Keywords: CVD; depozice z plynné fáze; depoziční pec; DMAIC; DOE; faktorová analýza; fosfin; OFAT; polykrystalický křemík; silan; chemical vapor deposition; CVD; deposition furnace; DMAIC; DOE; factor analysis; OFAT; phosphine; polycrystalline silicon; silane

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/922

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-225144


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Bachelor's theses