Název: Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků
Překlad názvu: Yttrium oxide layers for antireflection coating of silicon solar cells
Autoři: Dostál, Vladimír ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Hégr, Ondřej (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok: 2010
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato práce se zabývá depozicí ytrium oxidových vrstev na křemíkový substrát (P- typ) metodou magnetronového i reaktivního magnetronového naprašování. V práci jsou popsány provedené experiment a jejich výsledky, dále se práce zaměřuje na metodiku vyhodnocení nadeponovaných vrstev pomocí spektrofotometrie a FTIR. Dosažené výsledky spolu s budoucím vývojem práce jsou potom konzultovány v závěru. This work deals with deposition of yttrium oxide layers on silicon substrate (P – type) by using magnetron and reactive magnetron sputtering. Experiments which were made are further described. After that, work is focused on evaluation of deposited layers by using FTIR measurement technique and spectrophotometry. At the end of the work results of experiments are discussed also with the future progress.
Klíčová slova: antireflexní vrstva; FTIR; RF magnetronové naprašování; solární článek; spektrofotometrie; Yttrium oxid; antireflective coating; FTIR; RF magnetron sputtering; solar cell; spectrophotometry; Ytrium oxide

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/17122

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-218813


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Diplomové práce