|
|
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie
|
|
|
Functional organic-inorganic nanostructures
Kelíšek, Petr ; Zmeškal, Oldřich (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Diploma thesis deals with preparation of multilayered organic-inorganic nanostructures via PECVD technology and analysis of optical properties of these layers by spectroscopic ellipsometry. The theoretical part handles the definition of thin layers, layered and gradient nanostructures, plasma enhanced chemical vapor deposition and principles of spectroscopic ellipsometry. In the experimental part, used materials and chemicals are described, afterwards follow a complete description of the apparatus used for sample preparation and a description of the sample preparation procedure. The results part consists of methodology of preparing material models necessary for ellipsometric measurements and evaluation of optical properties of deposited nanolayers.
|
|
|
Functional organic-inorganic nanostructures
Kelíšek, Petr ; Zmeškal, Oldřich (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Diploma thesis deals with preparation of multilayered organic-inorganic nanostructures via PECVD technology and analysis of optical properties of these layers by spectroscopic ellipsometry. The theoretical part handles the definition of thin layers, layered and gradient nanostructures, plasma enhanced chemical vapor deposition and principles of spectroscopic ellipsometry. In the experimental part, used materials and chemicals are described, afterwards follow a complete description of the apparatus used for sample preparation and a description of the sample preparation procedure. The results part consists of methodology of preparing material models necessary for ellipsometric measurements and evaluation of optical properties of deposited nanolayers.
|
|
|
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (referee) ; Čech, Vladimír (advisor)
Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie
|
guest ::
