|
|
SMV-2015-14: Technologie elektronové litografie
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti přístrojového vybavení pro elektronovou litografii. Výzkum zahrnuje celý litografický systém, zejména elektronové emitéry Schottky ZrO/W, elektronovou optiku se systémem tvarování svazku, X-Y pohybový mechanismus, vakuový systém, napájecí a řídící elektroniku.
|
|
|
Thin Metallic Layers Structured by E-beam Lithography
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Urbánek, Michal ; Matějka, František ; Matějka, Milan
The group of electron beam lithography runs the laboratory equipped with a shaped beam electron writer (BS600) and the basic technology for the lithographic process. The group is able to prepare micro and nano structures in thin layers of metals and other materials; including the characterization of the realized structures (using AFM, SEM, and CLSM). Within a few months (in the frame of the 'ALISI' project) a new e-beam writer with a better resolution will be installed; it will enable the realization of the actual structures in a better quality and the development of new structures with a very high innovation potential.
|
|
| |
host ::
RSS.