Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"cryogenic system"
Hledej:
Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 1 záznamů.  Hledání trvalo 0.02 vteřin. 
Zařízení pro měření tepelné emisivity při nízkých teplotách
 Králík, Tomáš ; Hanzelka, Pavel ; Musilová, Věra ; Srnka, Aleš
V popsaném zařízení se měří tepelná emisivita nebo absorptivita vzorku substitucí toku tepla zářením mezi dvěma rovnoběžnými povrchy tepelným výkonem topení. Je možné provádět rychlá měření vzájemné emisivity v rozsahu teplot zářícího povrchu 25 K- 150 K. Absorbující povrch má teplotu 5 K - 10 K, je-li k chlazení použito LHe. Dosahovaná citlivost měření je 1mK pro teplotu nebo 0,1 mikroW pro tepelný výkon. Celkový průměr zařízení je 50 mm a k chlazení lze použít komerčně dostupnou Dewarovu nádobu. Vzorek má tvar disku o průměru 40 mm o tloušťce 1 mm s jednou měřenou stranou. Lze měřit emisivitu a její teplotní závislost pro různé úpravy povrchů bezprostředně před jejich použitím v kryogenním zařízení
Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English