|
|
Kovové nanostruktury s trojrozměrnou topografií pro plazmoniku
Rovenská, Katarína ; Kvapil, Michal (oponent) ; Ligmajer, Filip (vedoucí práce)
Vďaka vysokej koncentrácii voľných elektrónov môže v kovových nanoštruktúrach dochádzať k plazmovej rezonancii. Podobu frekvenčnej závislosti plazmovej rezonancie nanoštruktúr možno meniť viacerými faktormi, čo rozširuje pole ich uplatnenia, dané ich schopnosťou fokusovať svetlo pod difrakčný limit. Predkladaná práca sa zaoberá výrobou zlatých nanoštruktúr pripravených pomocou elektrónovej litografie na kremíkovom substráte. Topografia substrátu je následne upravená technikou mokrého anizotropného leptania. Súčasťou práce je tiež stručný prehľad metód využívaných k výrobe nanoštruktúr s planárnou i trojrozmernou topografiou. Práca ďalej využitím infračervenej spektroskopie analyzuje vplyv veľkosti, tvaru a rozstupu nanoštruktúr ako aj topografie kremíkového substrátu na optickú odozvu pripravených nanoštruktúr. Výsledky predkladanej práce overujú známe trendy spektrálnej závislosti optických charakteristík na spomenutých parametroch v strednej oblasti infračerveného spektra.
|
|
|
Příprava grafenových nanostruktur pro aplikace
Dubnická Midlíková, Jana ; Procházka, Pavel (oponent) ; Lišková, Zuzana (vedoucí práce)
Práca sa zaoberá prípravou grafénových nanoštruktúr a ich aplikáciami pri meraní elektrických transportných vlastností grafénu. Grafénove vrstvy sú pripravované mechanickou exfoliáciou dvoma spôsobmi, pomocou lepiacej pásky alebo pomocou elastomerného filmu. Na exfoliovaných grafénových šupinkách sú vytvárané kontakty litografiou elektrónovým zväzkom, pomocou ktorých sa meria odpor grafénových vrstiev. Merania transportných vlastností grafénu prebiehajú v dvoch prostrediach, a to na vzuchu a vo vákuu. Z nameraných hodnôt sú stanovené hodnoty pohyblivosti a koncentrácie nosičov náboja pripravenej grafénovej nanoštruktúry.
|
|
|
Charakterizace struktur připravených selektivním mokrým leptáním křemíku
Metelka, Ondřej ; Mikulík, Petr (oponent) ; Šamořil, Tomáš (vedoucí práce)
Úkolem diplomové práce bylo provedení optimalizace procesu přípravy kovové leptací masky pomocí elektronové litografie a následného selektivního mokrého leptání křemíku s krystalografickou orientací (100). Dále byla provedena charakterizace leptaného povrchu a vytvořených struktur. Konkrétně byla pozornost věnována morfologii znázorněné pomocí skenovací elektronové mikroskopie a studiu změny optických vlastností zlatých plazmonických antén vlivem jejich podleptání.
|
|
|
Příprava mikro- a nanostruktur pomocí rozdílných leptacích metod
Těšík, Jan ; Urbánek, Michal (oponent) ; Šamořil, Tomáš (vedoucí práce)
Selektivní leptání je v současnosti velmi používanou metodou pro přípravu mikro- a nanostruktur. Tato bakalářská práce se zabývá principy těchto leptacích metod, jejich aplikacemi a také možnostmi suchého a mokrého leptání na Ústavu fyzikálního inženýrství. V experimentální části se věnuje přípravě leptacích masek k zajištění selektivity leptání a následně tvorbě předem definovaných mikro- a nanostruktur. Z výsledků byly stanoveny důležité parametry, např. rychlosti leptání Si, selektivitu masek atd. Dále byla porovnána vhodnost použitých způsobů leptání a krycích masek.
|
|
|
Grafenové struktury vhodné pro polem řízené tranzistory
Kurfürstová, Markéta ; Bartošík, Miroslav (oponent) ; Mach, Jindřich (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá přípravou grafenových struktur vhodných pro tranzistory řízené elektrickým polem. V první části je charakterizován grafen z hlediska jeho vlastností a metod přípravy. V části druhé je shrnuta polovodičová technika se zaměřením na tranzistory s grafenovou vrstvou. Následuje popis metody elektronové litografie, která byla použita při výrobě struktur. Na závěr je popsán experimentální postup přípravy grafenových struktur.
|
|
| |
host ::
RSS.