Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 2 záznamů.  Hledání trvalo 0.01 vteřin. 
Elektrická rezistivita podstechiometrického TiO2 vyrobeného plazmovým nástřikem
Ctibor, Pavel ; Sedláček, J. ; Neufuss, Karel
Byla studována elektrická rezistivita materiálu TiO2, připraveného pomocí plazmového nástřiku. Byl použit jednak konvenční syntetický prášek, a také prášek připravený aglomerací nanočástic. Byla studována závislost rezistivity na parametrech jeho podávání do plazmatu. Kromě stříkací a podávací vzdálenosti lze ovlivnit rezistivitu i teplotou předehřevu podložky, na které je nástřik vytvářen.
Elektrická rezistivita podstechiometrického TiO2 vyrobeného plazmovým nástřikem
Ctibor, Pavel ; Sedláček, J. ; Neufuss, Karel
Byla studována elektrická rezistivita materiálu TiO2, připraveného pomocí plazmového nástřiku. Byl použit jednak konvenční syntetický prášek, a také prášek připravený aglomerací nanočástic. Byla studována závislost rezistivity na parametrech jeho podávání do plazmatu. Kromě stříkací a podávací vzdálenosti lze ovlivnit rezistivitu i teplotou předehřevu podložky, na které je nástřik vytvářen.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.