Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 3 záznamů.  Hledání trvalo 0.01 vteřin. 
Měření čerpací rychlosti kryovývěvy pomocí kalibrované heliové netěsnosti
Urban, Pavel ; Dupák, Jan ; Hanzelka, Pavel ; Králík, Tomáš ; Musilová, Věra
Článek popisuje použití heliové kalibrované netěsnosti k měření čerpací rychlosti malé heliové lázňové kryovývěvy. Čerpací rychlost byla měřena pro dva typy vstupních radiačních přepážek kryovývěvy. Výsledky měření byly srovnány s výpočty metodou Monte Carlo
Emisivita a absorptivita tepelného záření povrchů konstrukčních kovů za velmi nízkých teplot
Musilová, Věra ; Hanzelka, Pavel ; Králík, Tomáš ; Srnka, Aleš
V práci je uvedeno porovnání absorptivit tepelného záření pro povrchy několika kovových konstrukčních materiálů užívaných v kryogenice. Měřili jsme teplo absorbované rovinnými povrchy Cu, Al a nerezové oceli chlazenými na teplotu 5 až 10 K. Zdrojem tepla byl černý povrch umístěný paralelně v malé vzdálenosti od testovaného povrchu. Výsledkem našich měření jsou závislosti absorptivity na teplotě záření v rozsahu teplot 30 K až 140 K. Závislosti jsou presentovány pro různé úpravy povrchů kovů, např. chemické a mechanické leštění, žíhání a ukazují vliv těchto úprav na přenos tepla zářením za velmi nízkých teplot
Zařízení pro měření tepelné emisivity při nízkých teplotách
Králík, Tomáš ; Hanzelka, Pavel ; Musilová, Věra ; Srnka, Aleš
V popsaném zařízení se měří tepelná emisivita nebo absorptivita vzorku substitucí toku tepla zářením mezi dvěma rovnoběžnými povrchy tepelným výkonem topení. Je možné provádět rychlá měření vzájemné emisivity v rozsahu teplot zářícího povrchu 25 K- 150 K. Absorbující povrch má teplotu 5 K - 10 K, je-li k chlazení použito LHe. Dosahovaná citlivost měření je 1mK pro teplotu nebo 0,1 mikroW pro tepelný výkon. Celkový průměr zařízení je 50 mm a k chlazení lze použít komerčně dostupnou Dewarovu nádobu. Vzorek má tvar disku o průměru 40 mm o tloušťce 1 mm s jednou měřenou stranou. Lze měřit emisivitu a její teplotní závislost pro různé úpravy povrchů bezprostředně před jejich použitím v kryogenním zařízení

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.