|
|
Přepínání elektrické polarizace v moiré feroelektrikách pomocí expozice elektronovým svazkem
Tetalová, Kateřina ; Uhlířová, Klára (vedoucí práce) ; Dědič, Václav (oponent)
Předmětem této diplomové práce je studium materiálů VPbS3 a CrBiS3, vrstevnatých sloučenin s nesouměřitelnou krystalovou strukturou, s důrazem na VPbS3. Jak se nám nedávno podařilo ukázat, tento materiál vykazuje známky skluzové feroelektricity, což je nový druh feroelektricity typický pro materiály s van der Waalsovou vazbou. Doménovou strukturu VPbS3 lze zobrazit pomocí mikroskopie atomárních sil i skenovací elektro- nové mikroskopie. Z našich testů vyplývá, že domény je možné přepolarizovat litografií elektronovým svazkem. U objemových krystalů je typicky možné domény přepolarizo- vat s nábojovými hustotami v řádu tisíců µC/cm2 a s urychlovacím napětím od 20 kV. Exfoliované krystaly jsou na hodnoty nábojové hustoty řádově citlivější. Skluzovou fero- elektricitu jsme potvrdili i u materiálu CrBiS3. Jeho doménovou strukturu je také možné přepolarizovat pomocí litografie elektronovým svazkem, ale pravděpodobně díky vyššímu odporu lze používat nábojové hustoty již v řádu desítek µC/cm2 . Dá se předpokládat, že i ostatní strukturně podobné vrstevnaté sloučeniny s nesouměřitelnou krystalovou struk- turou budou feroelektrické, což přináší široké možnosti kombinace feroelektricity a dalších materiálových vlastností. 1
|
|
|
Morfologie a fyzikální vlastnosti VPbS3, vrstevnaté sloučeniny s nesouměřitelnou krystalovou strukturou.
Tetalová, Kateřina ; Uhlířová, Klára (vedoucí práce) ; Kúš, Peter (oponent)
Předmětem této bakalářské práce je zkoumání základních vlastností vzorku VPbS3, vrstevnatého materiálu s nesouměřitelnou krystalovou strukturou. Hlavní částí práce bylo studium štípnutého povrchu vzorku. Věnovali jsme se chemické stabilitě, struk- tuře štípnutého povrchu, hloubkám vyštípnutých artefaktů i vlivu struktury po- vrchu na exfoliaci tenkých vrstev. Exfoliace vzorků byla provedena na dva substráty - Si/SiOx/5 nm Au a Si/300 nm SiOx - pro porovnání adheze. Rovněž byla pro- měřena závislost odporu materiálu VPbS3 na teplotě. V rámci práce byly využity a srovnány tři mikroskopické metody - optická mikroskopie, skenovací elektronová mikroskopie a mikroskopie atomárních sil. Okrajově jsme se věnovali růstu krystalů materiálu a ověření jejich složení. Vzorek VPbS3 je z pohledu AFM chemicky sta- bilní. Na substrát Si/300 nm SiOx se podařilo exfoliovat vrstvy vzorku o tloušťce cca 1,9 nm, na substrát Si/SiOx/5 nm Au se podařilo exfoliovat vrstvy o tloušťce cca 0,8 nm. V souladu s předchozím pozorováním měření elektrického odporu vykazuje známky polovodivého chování. 1
|
host ::
RSS.