|
|
Zranění předního zkříženého vazu v judu
Meško, Mikuláš ; Pavelka, Radim (vedoucí práce) ; Holá, Veronika (oponent)
Název: Zranění předního zkříženého vazu v judu Cíle: Na základě současného vědeckého poznání popsat a shrnout aspekty poranění kolene v judu, konkrétně předního zkříženého vazu (ACL). Získat přehled o příčinách vzniku tohoto poranění, četnosti výskytu a možných dopadech na kvalitu života. Metody: Narativní přehled Výsledky: Přední zkřížený vaz je velice důležitým stabilizátorem kolenního kloubu a jeho zranění způsobuje nejen dlouhé absence v tréninku ale dokonce i úplné ukončení sportovní kariéry. Dále bylo zjištěno, že motorické funkce po zranění předního zkříženého vazu lze obnovit, ale kinestezie (cit pro pohyb a vnímání pohybu podrážděním receptorů ve svalech a šlachách) může být trvale narušena. Dopad tohoto zranění je i zvýšení rizika vzniku osteoporózy v kolenním kloubu u mladších lidí. Poranění předního zkříženého vazu postihuje více ženy než muže a nejčastějšími prováděnými technikami, při kterých toto zranění vzniká je osoto-gari a kosoto-gari. Klíčová slova: koleno, sportovní zranění, judo, ACL, kvalita života
|
|
|
Measurement of dry friction coefficient
Meško, Marek ; Brablc, Martin (oponent) ; Rubeš, Ondřej (vedoucí práce)
This thesis describes modelling of dry friction and determining appropriate friction coefficients. The theoretical part of the thesis is devoted to the basic models of dry friction. The aim of the practical part of this thesis is to create devices for measuring friction coefficients and subsequently to measure the corresponding friction coefficients using these devices.
|
|
|
Diamond growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Frgala, Z. ; Kudrle, V. ; Janča, J. ; Buršíková, V. ; Vašina, P. ; Meško, M. ; Buršík, Jiří ; Kadlečíková, M. ; Klapetek, P.
We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapor deposition.We observed the interesting time dependence of the negative bias voltage during nucleation stage which is useful for nucleation process monitoring. The layers were analysed by Raman spectroscopy, scanning electron microscopy and atomic force microscopy.
|
host ::
RSS.