|
|
Studium fotoluminiscence tenkých vrstev MoS2
Kuba, Jakub ; Kunc,, Jan (oponent) ; Bartoš, Miroslav (vedoucí práce)
Práce se zabývá studiem tenkých vrstev dichalkogenidů přechodných kovů, především sulfidem molybdeničitým. Vytvořeny byly nanostruktury v dvojdimenzionálních krystalech MoS2 a WSe2, jenž byly následně analyzovány. Sledovány byly především jejich fotoluminiscenční vlastnosti. Součástí práce je rešerše dichalkogenidů přechodných kovů a popis způsobu přípravy vrstev upravenou metodou mikromechanické exfoliace.
|
|
|
Pasivace povrchu germania metodou ALD
Kuba, Jakub ; Polčák, Josef (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
Práce se zabývá pasivací povrchu germania pomocí chemického leptání a metodou depozice atomárních vrstev (ALD). Sledována byla především rychlost oxidace povrchu germania a zastoupení jednotlivých oxidů germania po použití vybraných metod pasivace. Součástí práce je rešerše odstraňování nativních oxidů germania a stručný popis použitých metod využívaných pro analýzu (XPS) a depozici tenkých vrstev (ALD).
|
|
|
Studium fotoluminiscence tenkých vrstev MoS2
Kuba, Jakub ; Kunc,, Jan (oponent) ; Bartoš, Miroslav (vedoucí práce)
Práce se zabývá studiem tenkých vrstev dichalkogenidů přechodných kovů, především sulfidem molybdeničitým. Vytvořeny byly nanostruktury v dvojdimenzionálních krystalech MoS2 a WSe2, jenž byly následně analyzovány. Sledovány byly především jejich fotoluminiscenční vlastnosti. Součástí práce je rešerše dichalkogenidů přechodných kovů a popis způsobu přípravy vrstev upravenou metodou mikromechanické exfoliace.
|
|
|
Pasivace povrchu germania metodou ALD
Kuba, Jakub ; Polčák, Josef (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
Práce se zabývá pasivací povrchu germania pomocí chemického leptání a metodou depozice atomárních vrstev (ALD). Sledována byla především rychlost oxidace povrchu germania a zastoupení jednotlivých oxidů germania po použití vybraných metod pasivace. Součástí práce je rešerše odstraňování nativních oxidů germania a stručný popis použitých metod využívaných pro analýzu (XPS) a depozici tenkých vrstev (ALD).
|
host ::
RSS.