Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 2 záznamů.  Hledání trvalo 0.01 vteřin. 
Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
Křípalová, Kristýna ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu.
Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
Křípalová, Kristýna ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.