Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 3 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Optoelectrical characterization of well oriented n-type zno nanorod arrays on p-type GaN templates
Yatskiv, Roman ; Grym, Jan ; Schenk, Antonín ; Vaniš, Jan ; Roesel, David ; Chlupová, Šárka
A heterojunction formed between a single n-type ZnO nanorod and p-type GaN template was successfully prepared by low cost chemical bath deposition technique. Periodic circular patterns were fabricated by focused ion beam etching through poly(methyl methacrylate) mask to control the size, position, and periodicity of the ZnO nanorods. A possible growth mechanism is introduced to explain the growth process of the nanorods. Optical and electrical properties of the heterojunctions were investigated by low temperature photoluminescence spectroscopy and by the measurement of current-voltage (I-V) characteristics. The I-V characteristics were measured by directly contacting single ZnO nanorods with the conductive atomic force microscopy tip. The diode-like rectifying behavior was observed with a turn-on voltage of 2.3 V and the reverse breakdown voltage was 5 V
Study of deposition of catalytic materials into fuel channels of micro-fuel cells on a chip
Chlupová, Šárka ; Matolínová, Iva (vedoucí práce) ; Grym, Jan (oponent)
Tato diplomová práce se zabývá procesem elektronové litografie jako nástroje použitelného k transportu kontaktních a katalytických vrstev do mikro-kanálů v monolitickém planárním palivovém mikro-článku. Experimentální část zahrnuje optimalizaci depozice PMMA rezistových vrstev na 3D strukturovaném Si substrátu. Spray-coating je proveden pomocí alternativního spray-coating systému. Optimální rychlost otáček, molekulární hmotnost a koncentrace jsou vybrány během optimalizace. Parametry celého litografického procesu jsou také modifikovány a tři po sobě následující EBL procesy jsou provedeny. První zajišťuje depozici zlatých kontaktů, druhý nanese Pt katalytickou vrstvu do katodového kanálu a třetí pokryje anodový kanál vrstvou CeO/CNx.
Kontaktování nanostruktur pro senzorická měření
Chlupová, Šárka ; Matolínová, Iva (vedoucí práce) ; Dvořák, Filip (oponent)
Název práce: Kontaktování nanostruktur pro senzorická měření Autor: Šárka Chlupová Katedra: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí bakalářské práce: Doc. Mgr. Iva Matolínová, Dr., Katedra fyziky povrchů a plazmatu Abstrakt: Předložená bakalářská práce se zabývá kontaktováním nanostruktur pomocí elektronové litografie (EBL). Práce probíhala ve skenovacím elektronovém mikroskopu na nevodivém slídovém substrátu s nanotyčkami WOx na povrchu za účelem přípravy senzoru pro detekci H2. V rámci tohoto experimentu byly modifikovány parametry pro jednotlivé dílčí procesy EBL. Byly vybrány optimální tloušťky rezistů PMMA 120K(5% anisol) a PMMA 996K(1% anisol) tak, aby k přípravě masky pro EBL mohl být použit vícevrstvý rezist. Na vzniklém dvouvrstvém rezistu byly optimalizovány expoziční dávky elektronovým svazkem. Byla vybrána vhodná dávka pro matrici navrženou ke kontaktování nanotyček WOx nesených na slídě. Ke kontaktování nanostruktur byly nejdříve na povrch slídy deponovány makrokontakty a na nich pak proběhl proces EBL. Jeho výsledkem bylo vodivé propojení wolframoxidových nanotyček pomocí vytvořených nanokontaktů s makrokontakty. U takto nakontaktovaného senzoru byly následně úspěšně testovány jeho senzorické vlastnosti pomocí H2. Klíčová slova: Senzor, nanotyčky WOx, Elektronová litografie

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.