|
|
Přenos tepla napříč superizolacemi z pokojových do nízkých teplot
Hirschl, Ch. ; Králík, Tomáš ; Laa, Ch. ; Musilová, Věra ; Schmid, T. ; Stipsitz, J.
Po více jak 30 let jsou k dispozici tepelná měření a analytické vztahy pro výpočet přenosu tepla superizolacemi (SI). S ohledem na teplotní závislost emisivity hliníku, nejčastěji používaného materiálu pro odrazivé povrchy, byli odvozeny vztahy na základě Stefanova-Boltzmannova zákona pro přenos tepla zářením. Výsledkem jsou vztahy pro přenos tepla napříč SI se započítáním členu pro tepelnou vodivost. Provedly jsme výpočty tepelného toku s využitím nových výsledků měření teplotní závislosti emisivity a tepelné vodivosti pomocí běžného programového vybavení. Přenos tepla napříč SI a rozložení teploty uvnitř SI spočítaný tímto novým postupem byl porovnán s již známými výpočty a měřeními.
|
|
| |
|
|
Emisivita a absorptivita tepelného záření povrchů konstrukčních kovů za velmi nízkých teplot
Musilová, Věra ; Hanzelka, Pavel ; Králík, Tomáš ; Srnka, Aleš
V práci je uvedeno porovnání absorptivit tepelného záření pro povrchy několika kovových konstrukčních materiálů užívaných v kryogenice. Měřili jsme teplo absorbované rovinnými povrchy Cu, Al a nerezové oceli chlazenými na teplotu 5 až 10 K. Zdrojem tepla byl černý povrch umístěný paralelně v malé vzdálenosti od testovaného povrchu. Výsledkem našich měření jsou závislosti absorptivity na teplotě záření v rozsahu teplot 30 K až 140 K. Závislosti jsou presentovány pro různé úpravy povrchů kovů, např. chemické a mechanické leštění, žíhání a ukazují vliv těchto úprav na přenos tepla zářením za velmi nízkých teplot
|
|
|
Zařízení pro měření tepelné emisivity při nízkých teplotách
Králík, Tomáš ; Hanzelka, Pavel ; Musilová, Věra ; Srnka, Aleš
V popsaném zařízení se měří tepelná emisivita nebo absorptivita vzorku substitucí toku tepla zářením mezi dvěma rovnoběžnými povrchy tepelným výkonem topení. Je možné provádět rychlá měření vzájemné emisivity v rozsahu teplot zářícího povrchu 25 K- 150 K. Absorbující povrch má teplotu 5 K - 10 K, je-li k chlazení použito LHe. Dosahovaná citlivost měření je 1mK pro teplotu nebo 0,1 mikroW pro tepelný výkon. Celkový průměr zařízení je 50 mm a k chlazení lze použít komerčně dostupnou Dewarovu nádobu. Vzorek má tvar disku o průměru 40 mm o tloušťce 1 mm s jednou měřenou stranou. Lze měřit emisivitu a její teplotní závislost pro různé úpravy povrchů bezprostředně před jejich použitím v kryogenním zařízení
|
host ::
RSS.