|
|
Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu
Haviar, Stanislav ; Matolín, Vladimír (vedoucí práce) ; Lopour, Filip (oponent)
V práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.
|
|
|
Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu
Haviar, Stanislav ; Lopour, Filip (oponent) ; Matolín, Vladimír (vedoucí práce)
V práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.
|
|
|
Ion Beam Thin Film Deposition, Surface and Thin Film Analysis
Šikola, T. ; Spousta, J. ; Zlámal, J. ; Průša, S. ; Lopour, F. ; Kalousek, R. ; Třískala, M. ; Tichopádek, P. ; Krejzlík, T. ; Nebojsa, A. ; Lencová, Bohumila
|
|
| |
host ::
RSS.