|
Optimalizace impulsního silnoproudého výboje v plynem plněné kapiláře pro aplikační účely - Ar8+ laser 46.9 nm
Štraus, Jaroslav ; Koláček, Karel (vedoucí práce) ; Jančárek, Alexandr (oponent) ; Wild, Jan (oponent)
Předmětem práce bylo dokončení vývoje české varianty extrémně ultrafialového (XUV) argonového kapilárního laseru pracujícího na vlnové délce 46.9 nm a jeho přizpůsobení pro první praktické aplikace. Víceoborový komplex vzájemně provázaných problémů byl analyzován a studován: S pomocí defektoskopických metod byly zjišťovány příčiny nízké životnosti kapiláry, spektroskopicky byl na fyzikálním modelu studován vliv režimu předionizace. Provedením nezbytných konstrukčních a technologických změn a multi parametrickou optimalizací pracovního režimu byly zjištěné nedostatky potlačeny. XUV laser byl fokusován do stopy o velikosti cca 100 µm a aparatura byla rozšířena o praktické pomůcky a doplňky pro speciální aplikace, zejména pro expozici vzorků při extrémních teplotách. Z praktických aplikací XUV laseru byla provedena měření odrazivosti multivrstvých zrcadel a pohltivosti tenkých kovových filtrů. Principiálně byly ověřeny možnosti naprašování tenkých vrstev a testování radiační odolnosti materiálů s pomocí XUV laseru. Byla změřena patrně první teplotní závislost rychlosti XUV laserové ablace, v intervalu teplot od -180 o C do + 200 o C, na BaF2.
|
|
Optimalizace impulsního silnoproudého výboje v plynem plněné kapiláře pro aplikační účely - Ar8+ laser 46.9 nm
Štraus, Jaroslav ; Koláček, Karel (vedoucí práce) ; Jančárek, Alexandr (oponent) ; Wild, Jan (oponent)
Předmětem práce bylo dokončení vývoje české varianty extrémně ultrafialového (XUV) argonového kapilárního laseru pracujícího na vlnové délce 46.9 nm a jeho přizpůsobení pro první praktické aplikace. Víceoborový komplex vzájemně provázaných problémů byl analyzován a studován: S pomocí defektoskopických metod byly zjišťovány příčiny nízké životnosti kapiláry, spektroskopicky byl na fyzikálním modelu studován vliv režimu předionizace. Provedením nezbytných konstrukčních a technologických změn a multi parametrickou optimalizací pracovního režimu byly zjištěné nedostatky potlačeny. XUV laser byl fokusován do stopy o velikosti cca 100 µm a aparatura byla rozšířena o praktické pomůcky a doplňky pro speciální aplikace, zejména pro expozici vzorků při extrémních teplotách. Z praktických aplikací XUV laseru byla provedena měření odrazivosti multivrstvých zrcadel a pohltivosti tenkých kovových filtrů. Principiálně byly ověřeny možnosti naprašování tenkých vrstev a testování radiační odolnosti materiálů s pomocí XUV laseru. Byla změřena patrně první teplotní závislost rychlosti XUV laserové ablace, v intervalu teplot od -180 o C do + 200 o C, na BaF2.
|
| |
| |
| |
| |
| |