|
|
Studium strukturních vlastností modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru
Beran, Jan
Tato práce se zabývá studiem struktury modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru metodami elektronové difrakce RHEED a fotoelektronové spektroskopie XPS. V práci je detailně popsán vliv depozičních podmínek a typu substrátu na růst epitaxních vrstev oxidu ceru na površích monokrystalů mědi. Dále práce popisuje interakci ceru a cínu v modelových systémech a vznik a strukturu směsného oxidu SnCeOx. V poslední části práce je zkoumána interakce palladia s povrchy oxidů ceru a cínu a vznik bimetalických slitin palladia. Powered by TCPDF (www.tcpdf.org)
|
|
|
Studium strukturních vlastností modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru
Beran, Jan
Tato práce se zabývá studiem struktury modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru metodami elektronové difrakce RHEED a fotoelektronové spektroskopie XPS. V práci je detailně popsán vliv depozičních podmínek a typu substrátu na růst epitaxních vrstev oxidu ceru na površích monokrystalů mědi. Dále práce popisuje interakci ceru a cínu v modelových systémech a vznik a strukturu směsného oxidu SnCeOx. V poslední části práce je zkoumána interakce palladia s povrchy oxidů ceru a cínu a vznik bimetalických slitin palladia. Powered by TCPDF (www.tcpdf.org)
|
|
|
Studium strukturních vlastností modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru
Beran, Jan ; Mašek, Karel (vedoucí práce) ; Olejník, Kamil (oponent) ; Lykhach, Yaroslava (oponent)
Tato práce se zabývá studiem struktury modelových katalyzátorů na bázi oxidu ceru metodami elektronové difrakce RHEED a fotoelektronové spektroskopie XPS. V práci je detailně popsán vliv depozičních podmínek a typu substrátu na růst epitaxních vrstev oxidu ceru na površích monokrystalů mědi. Dále práce popisuje interakci ceru a cínu v modelových systémech a vznik a strukturu směsného oxidu SnCeOx. V poslední části práce je zkoumána interakce palladia s povrchy oxidů ceru a cínu a vznik bimetalických slitin palladia. Powered by TCPDF (www.tcpdf.org)
|
|
|
Příprava a charakterizace tenkých epitaxních vrstev oxidu wolframu
Pavlíková, Romana ; Mašek, Karel (vedoucí práce) ; Olejník, Kamil (oponent)
Tenké epitaxní vrstvy oxidu wolframu byly připraveny metodou vakuového napařování na povrchy monokrystalů Pd(111), Cu(111), Cu(110) a Cu(100) a studovány metodami RHEED, XPS a AFM. Depozice probíhala při teplotách substrátu 300 řC - 400 řC v UHV nebo v kyslíkové atmosféře. Jako optimální podmínky pro depozici se ukázala teplota 400 řC a kyslíková atmosféra. Takto připravené tenké vrstvy jsou epitaxní a jen částečně redukované. Na povrchu Pd(111) a Cu(111) vznikla vrstva skládající se ze dvou fází: téměř atomárně rovné fáze s epitaxní rovinou (100) a fáze tvořené třídimenzionálními částicemi s epitaxní rovinou (111). Vrstva deponovaná na Cu (100) se skládala také z dvou fází: hladké vrstvy s epitaxí (100) a samoorganizované 1D struktury ve směrech Cu[010] a Cu[001]. Na povrchu Cu(110) pak vznikla pouze samoorganizovaná struktura ve směru Cu[1-10]. Byly studovány možnosti oxidace deponovaných částečně redukovaných vrstev pomocí radiofrekvenčního plazmatu kyslíku, vystavení vrstvy vlivu O2 za zvýšené teploty a vystavení působení atmosféry. Byla také zkoumána teplotní stabilita systému WO3/Cu(110) až do teploty 620 řC.
|
|
|
Studium vlivu teploty substrátu na strukturu epitaxních vrstev oxidu wolframu
Pavlíková, Romana ; Mašek, Karel (vedoucí práce) ; Veltruská, Kateřina (oponent)
Předmětem práce je zkoumání vlivu teploty substrátu při radiofrekvenční oxidaci monokrystalu wolframu W(110) na strukturu, chemické složení a morfologii vznikajících vrstev. Tyto parametry byly zkoumány pomocí metod RHEED, XPS, AFM a SEM. Oxidace byla provedena za pokojové teploty a dále při teplotách substrátu 400ř C, 500ř C a 550ř C. Vrstvy vznikající za pokojové teploty a při 400ř C byly amorfní, rekrystalizací pak bylo dosaženo epitaxního uspořádání. Za teploty 500ř C vznikla přímo epitaxní vrstva. Po dalším zvýšení teploty na 550ř C vznikla polykrystalická vrstva, která ale téměř postrádala preferenční uspořádání. Veškeré vznikající epitaxní vrstvy oxidu wolframu rostly s krystalografickou rovinou (111) rovnoběžnou s povrchem. Vrstvy rostly s relativně vysokou hrubostí v řádu několika nanometrů.
|
host ::
RSS.