|
|
Studium povrchové kontaminace optických dílů pomocí rozptylu nízkoenergiových iontů LEIS
Sekula, Filip ; Kolíbal, Miroslav (oponent) ; Průša, Stanislav (vedoucí práce)
Tato práce se věnuje studiu povrchové kontaminace optických dílů metodou rozptylu nízkoenergiových iontů LEIS. Výskyt povrchových nečistot na optických komponentách má negativní dopad na tenké vrstvy na ně nanášené. Ke kontaminaci může docházet mezi jednotlivými kroky výroby. Určením složení těchto nečistot by bylo možné jim předcházet a zvýšit tak efektivitu vrstvících procesů. Měření je prováděno na pravoúhlých optických hranolech za pokojové teploty. Zabýváme se také konstrukcí držáku vzorků s možností jejich vyhřívání v preparační komoře. Dále se věnujeme referenčním měřením k následné kvantifikaci povrchových nečistot.
|
|
|
MeV ion irradiation beamline at the Uppsala Tandem Accelerator: Improvements and applications
Sekula, Filip ; Páleníček, Michal (oponent) ; Průša, Stanislav (vedoucí práce)
The MeV ion irradiation beamline at Uppsala University's Tandem Laboratory is presented in this thesis. Theoretical basics of ion-solid collisions are discussed and material modification of solids by impinging energetic ions is described. The Tandem Accelerator setup is described starting from ion generation and ending with ions impinging on sample in irradiation beamline's main chamber. The sample transfer system is presented alongside improvements and modifications implemented to the original setup. A pilot application of improved system in material modification is presented on Ge quantum dot irradiation and ion fluence uniformity is analyzed using an electrostatic deflector simulation.
|
|
|
Vytvoření a ověření modelu zobrazujícího polarimetru v Müllerově formalismu
Locker, Tomáš ; Sekula, Filip (oponent) ; Antoš, Martin (vedoucí práce)
Cílem diplomové práce je vytvoření modelu zobrazujícího polarimetru vyvinutého firmou Meopta - optika, s.r.o. v Müllerově formalismu. Teoretická část práce se věnuje popisu Müllerova formalismu a experimentální sestavy polarimetru. V praktické části je popsán vytvořený matematický model a jeho softwarová implementace v prostředí MATLAB. Správnost modelu byla ověřena porovnáním výsledků měření s výsledky získanými za pomoci původního modelu využívajícího Jonesův formalismus. Rovněž byl vytvořen návrh držáku měřených vzorků a jeho výkresová dokumentace.
|
|
|
Vytvoření a ověření modelu zobrazujícího polarimetru v Müllerově formalismu
Locker, Tomáš ; Sekula, Filip (oponent) ; Antoš, Martin (vedoucí práce)
Cílem diplomové práce je vytvoření modelu zobrazujícího polarimetru vyvinutého firmou Meopta - optika, s.r.o. v Müllerově formalismu. Teoretická část práce se věnuje popisu Müllerova formalismu a experimentální sestavy polarimetru. V praktické části je popsán vytvořený matematický model a jeho softwarová implementace v prostředí MATLAB. Správnost modelu byla ověřena porovnáním výsledků měření s výsledky získanými za pomoci původního modelu využívajícího Jonesův formalismus. Rovněž byl vytvořen návrh držáku měřených vzorků a jeho výkresová dokumentace.
|
|
|
MeV ion irradiation beamline at the Uppsala Tandem Accelerator: Improvements and applications
Sekula, Filip ; Páleníček, Michal (oponent) ; Průša, Stanislav (vedoucí práce)
The MeV ion irradiation beamline at Uppsala University's Tandem Laboratory is presented in this thesis. Theoretical basics of ion-solid collisions are discussed and material modification of solids by impinging energetic ions is described. The Tandem Accelerator setup is described starting from ion generation and ending with ions impinging on sample in irradiation beamline's main chamber. The sample transfer system is presented alongside improvements and modifications implemented to the original setup. A pilot application of improved system in material modification is presented on Ge quantum dot irradiation and ion fluence uniformity is analyzed using an electrostatic deflector simulation.
|
|
|
Studium povrchové kontaminace optických dílů pomocí rozptylu nízkoenergiových iontů LEIS
Sekula, Filip ; Kolíbal, Miroslav (oponent) ; Průša, Stanislav (vedoucí práce)
Tato práce se věnuje studiu povrchové kontaminace optických dílů metodou rozptylu nízkoenergiových iontů LEIS. Výskyt povrchových nečistot na optických komponentách má negativní dopad na tenké vrstvy na ně nanášené. Ke kontaminaci může docházet mezi jednotlivými kroky výroby. Určením složení těchto nečistot by bylo možné jim předcházet a zvýšit tak efektivitu vrstvících procesů. Měření je prováděno na pravoúhlých optických hranolech za pokojové teploty. Zabýváme se také konstrukcí držáku vzorků s možností jejich vyhřívání v preparační komoře. Dále se věnujeme referenčním měřením k následné kvantifikaci povrchových nečistot.
|
host ::
RSS.