|
| |
|
| |
|
|
Generace koherentního krátkovlnného ( <160nm) záření pomocí konvenčních laserů
Chalupský, Jaromír ; Malý, Petr (vedoucí práce) ; Krása, Josef (oponent)
Teoretická část této práce podává přehled metod využívaných ke generování krátkovlnného koherentního záření. Popisuje přímé laserové a nepřímé koherentní zdroje VUV a XUV záření založené na nelineárních optických jevech. Dále je pojednáno o laserech na volných elektronech. Přehled principů generace záření a jeho vlastností nám slouží k posouzení využití takových zdrojů k různým účelům. Exponovány jsou též problémy spojené s manipulací svazkem krátkovlnného (tj. VUV/XUV) záření. Praktická část shrnuje výsledky experimentů, kterých jsme docílili s laserem na volných elektronech FLASH (Free Electron LASer in Hamburg; dříve VUV FEL) provozovaným v DESY. Popisuje metody a přístroje, které jsme používali ke studiu ablace materiálů a k měření emisních optických spekter ablačního oblaku. Hlavním cílem práce bylo stanovit prahy ablace a efektivní atenuační délky v polymethylmetakrylátových (PMMA), křemíkových a jiných (a-SiO2) vzorcích ozařovaných pulsním (~30fs) krátkovlnným (32nm) vysokovýkonovým laserovým zdrojem. Zachytili jsme čárovou emisi křemíkového plazmatu generovaného fokusovaným svazkem FLASH.
|
|
|
Laser ion sources
Láska, Leoš ; Králiková, Božena ; Krása, Josef ; Mašek, Karel ; Pfeifer, Miroslav ; Rohlena, Karel ; Skála, Jiří ; Haseroth, H. ; Kupler, H. ; Sharkov, B. ; Mróz, W. ; Parys, P. ; Wolowski, J. ; Woryna, E.
|
|
| |
|
| |
host ::
RSS.