|
|
Výroba polovodičových součástek na křemíku
Ježek, Vladimír ; Mikulík, Petr (oponent) ; Špinka, Jiří (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá problematikou základních technologií a procesů pro výrobu polovodičových součástek na křemíkovém substrátu. Uvádí procesy vytváření vrstvy oxidu křemičitého pomocí oxidace, vytváření struktur pomocí fotolitografie, dotování příměsí do oblastí vymezených fotolitografií pomocí difúze až po vytváření kontaktů a vodivých cest naprašováním. Dále se zabývá technologickým postupem výroby konkrétních součástek na křemíku, popisem těchto součástek i měřením, výpočtem růstu oxidu křemičitého, výpočtem difúze. Výsledkem jsou naměřené charakteristiky charakteristik součástek plus jejich vyhodnocení.
|
|
|
Vytváření trenčů o submikronové šířce pro moderní výkonové součástky
Bolcek, Martin ; Jankovský, Jaroslav (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Tato diplomová práce je zaměřena na optimalizaci procesu fotolitografie při výrobě polovodičových výkonových součástek. V úvodu je popsán přechod kov-polovodič a s ním související příkopová Schottkyho dioda. Následně je uveden popis dílčích kroků procesu fotolitografie, který tvoří teoretický základ pro testování parametrů fotolitografie. Cílem diplomové práce je optimalizace nastavení procesu fotolitografie pro výrobu trenčů o šířce pod 0,5 µm a její ověření v rámci výrobního bloku struktury trenčů. Práce probíhala ve spolupráci s firmou ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o. v Rožnově pod Radhoštěm.
|
|
|
Vytváření trenčů o submikronové šířce pro moderní výkonové součástky
Bolcek, Martin ; Jankovský, Jaroslav (oponent) ; Szendiuch, Ivan (vedoucí práce)
Tato diplomová práce je zaměřena na optimalizaci procesu fotolitografie při výrobě polovodičových výkonových součástek. V úvodu je popsán přechod kov-polovodič a s ním související příkopová Schottkyho dioda. Následně je uveden popis dílčích kroků procesu fotolitografie, který tvoří teoretický základ pro testování parametrů fotolitografie. Cílem diplomové práce je optimalizace nastavení procesu fotolitografie pro výrobu trenčů o šířce pod 0,5 µm a její ověření v rámci výrobního bloku struktury trenčů. Práce probíhala ve spolupráci s firmou ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o. v Rožnově pod Radhoštěm.
|
|
|
Výroba polovodičových součástek na křemíku
Ježek, Vladimír ; Mikulík, Petr (oponent) ; Špinka, Jiří (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá problematikou základních technologií a procesů pro výrobu polovodičových součástek na křemíkovém substrátu. Uvádí procesy vytváření vrstvy oxidu křemičitého pomocí oxidace, vytváření struktur pomocí fotolitografie, dotování příměsí do oblastí vymezených fotolitografií pomocí difúze až po vytváření kontaktů a vodivých cest naprašováním. Dále se zabývá technologickým postupem výroby konkrétních součástek na křemíku, popisem těchto součástek i měřením, výpočtem růstu oxidu křemičitého, výpočtem difúze. Výsledkem jsou naměřené charakteristiky charakteristik součástek plus jejich vyhodnocení.
|
host ::
RSS.