|
|
Fabrication and structuring of a thin vanadium dioxide layer for nanophotonics
Spousta, Jiří ; Musálek, Tomáš (referee) ; Rovenská, Katarína (advisor)
Vanadium dioxide is becoming frequently used in tunable metasurfaces, mainly due to its easily achievable insulator to metal phase-transition, occuring at around 67°C. This thesis deals with the optimization of thin VO2 layer fabrication process and specifically with e-beam evaporation and ion beam-assisted sputtering. The phase change of VO2 layers was optically characterized -- mostly, we measured the thermally-dependent transmissivity of our layers. In ion beam-assisted sputtering, we implemented a new process for yielding thin VO2 layers which uses in situ annealing during the deposition. Layers fabricated with this newly implemented process demonstrate a clear phase transition typical for VO2.
|
|
|
Characterization of structures fabricated by selective wet etching of silicon
Metelka, Ondřej ; Mikulík, Petr (referee) ; Šamořil, Tomáš (advisor)
The task of master’s thesis was to perform optimalization process for preparing metal etching mask by electron beam litography and subsequent selective wet ething of silicon with crystalographic orientation (100). Further characterization of etched surface and fabricated structures was performed. In particular, attention was given to the morphology demonstrated by scanning electron microscopy and study changes of the optical properties of gold plasmonic antennas due to their undercut.
|
|
|
Design of automated set-up intended for inspection of PMMA coated silicon wafers
Drozd, Michal ; Sobola, Dinara (referee) ; Knápek, Alexandr (advisor)
Při ovrstvování substrátu tenkou vrstvou polymerního rezistu dochází k defektům, které mohou poškodit celou, někdy i několikadenní expozici pomocí svazku elektronů - elektronovou litografií. Kvalita nanesené vrstvy, která je potřebná k následnému deponování, je velmi důležitá z hlediska následné funkčnosti vyráběné nanostrukutry. Předběžnou kontrolu kvality naneseného resistu je možné dělat ručně pomocí světelného mikroskopu. V rámci této bakalářské práce vznikl prototyp zařízení, které tyto defekty dokáže detekovat automaticky. Přesněji jde o rastrovací zařízení pojmenované WaferScan, umožňující skenovat křemíkovou podložku (wafer) optickou kamerou a analýzou obrazu v počítači zjistit polohu a velikost defektů a prachových částic v rezistu naneseném na waferu. Celé zařízení se skládá ze dvou pohyblivých os x a y, které umožňují pohyb kamery, a příslušené elektroniky. Součástí je také software k ovládání zařízení a zpracování obrazu.
|
|
|
Fabrication and structuring of a thin vanadium dioxide layer for nanophotonics
Spousta, Jiří ; Musálek, Tomáš (referee) ; Rovenská, Katarína (advisor)
Vanadium dioxide is becoming frequently used in tunable metasurfaces, mainly due to its easily achievable insulator to metal phase-transition, occuring at around 67°C. This thesis deals with the optimization of thin VO2 layer fabrication process and specifically with e-beam evaporation and ion beam-assisted sputtering. The phase change of VO2 layers was optically characterized -- mostly, we measured the thermally-dependent transmissivity of our layers. In ion beam-assisted sputtering, we implemented a new process for yielding thin VO2 layers which uses in situ annealing during the deposition. Layers fabricated with this newly implemented process demonstrate a clear phase transition typical for VO2.
|
|
|
Fabrication and characterization of nanostructures with functional properties in the field of plasmonics
Babocký, Jiří ; Detz, Hermann (referee) ; Vala,, Milan (referee) ; Dub, Petr (advisor)
Tato dizertční práce se zabývá výrbou a charakterizací plasmonických nanostruktur. Její první část začíná krátkým úvodem do plasmoniky s navazujícím přehledem metod, které jsou v dnešní době nejčastěji používány k výrobě a charakterizaci plasmonických nanostruktur. Druhá část se pak zaměřuje na samotný výzkum, který byl v rámci PhD studia realizován. Cílem prvních experimentů bylo prozkouat možnosti použití elektronové litografie za variabilního tlaku v procesní komoře pro výrobu plasmonických nanostruktur na nevodivých substrátech jako je např. sklo. Jelikož se jedná o materiály, které jsou velice často používány k přípravě plasmonických struktur pacujících v oblasti viditelného světla. Druhá sekce pak diskutuje některé specifické aspekty přípravy plasmonických mikrostruktur elektronovou litografií pro THz oblast. Poslední část se pak zaměřuje na funkční vlastnosti plasmonických nanostruktur, převážně pak na kvantitativní charakterizaci fáze dalekého pole indukovaného plasmonickými nanostrukturami a jejich aplikacemi v oblasti optických metapovrchů - uměle připravených povrchů, které mohou být použity jako planární optické komponenty. Práce demonstruje a diskutuje různé experimentální přístupy použití mimoosové holografické mikroskopie pro jejich charakterizaci.
|
|
|
Design of automated set-up intended for inspection of PMMA coated silicon wafers
Drozd, Michal ; Sobola, Dinara (referee) ; Knápek, Alexandr (advisor)
Při ovrstvování substrátu tenkou vrstvou polymerního rezistu dochází k defektům, které mohou poškodit celou, někdy i několikadenní expozici pomocí svazku elektronů - elektronovou litografií. Kvalita nanesené vrstvy, která je potřebná k následnému deponování, je velmi důležitá z hlediska následné funkčnosti vyráběné nanostrukutry. Předběžnou kontrolu kvality naneseného resistu je možné dělat ručně pomocí světelného mikroskopu. V rámci této bakalářské práce vznikl prototyp zařízení, které tyto defekty dokáže detekovat automaticky. Přesněji jde o rastrovací zařízení pojmenované WaferScan, umožňující skenovat křemíkovou podložku (wafer) optickou kamerou a analýzou obrazu v počítači zjistit polohu a velikost defektů a prachových částic v rezistu naneseném na waferu. Celé zařízení se skládá ze dvou pohyblivých os x a y, které umožňují pohyb kamery, a příslušené elektroniky. Součástí je také software k ovládání zařízení a zpracování obrazu.
|
|
|
Application of correlative AFM/SEM microscopy
Hegrová, Veronika ; Fejfar, Antonín (referee) ; Konečný, Martin (advisor)
This thesis is dealing with application of Correlative Probe and Electron Microscopy. All measurements were carried out by atomic force microscope LiteScope which is designed especially to be combined with electron microscopes. Advantages of Correlative AFM/SEM Microscopy are demonstrated on selected samples from field of nanotechnology and material science. Application of the correlative imaging was proposed and then realized particularly in case of low-dimensional structures and thin films. Further, this thesis deals with the possibility of combining Correlative AFM/SEM Microscopy with other integrated techniques of an electron microscope such as Focused Ion Beam and Energy Dispersive X-rays Spectroscopy.
|
|
|
Microstructures fabrication for transport properties measurements of heavy fermion compounds
Volný, Jiří ; Uhlířová, Klára (advisor) ; Prchal, Jiří (referee)
In this thesis, we focus on preparation of micro-devices for resistivity measure- ment of CeCoIn5 using focused ion beam technique. Single crystal samples of ∼ 50 µm length were carved out by focused ion beam and transported on silicon sub- strates with prepared gold structures for electrical resistivity measurement. The samples were conductivily attached to gold contact pads by focused ion beam in- duced platinum deposition. Several steps and techniques were optimized: electron litography, golden pads electrical resitivity measurement and platinum structures electrical resitivity measurement and microstructure transport. Electrical resisti- vity measurement of CeCoIn5 single crystal showed superconductive transition at Tc = 2.27 K and H-T phase diagram was created from measurement in magnetic fields. The result obtained from bulk sample are in agreement with literature. On the other hand measurement of micro-devices showed no superconducting transition, suggesting unsufficient quality of samples. 1
|
|
|
Fabrication and characterization of plasmonic nanostructures
Bačo, Ondřej ; Kvapil, Michal (referee) ; Dvořák, Petr (advisor)
This bachelor thesis deals with fabrication and characterization of plasmonic nanostructures. Graphene on a doped silicon substrate with a 285 nm thick layer of silicon dioxide was used for fabrication of these structures. Graphene ribbons with width in the order of hundreds of nanometers were prepared using electron beam lithography (EBL) and reactive ion etching (RIE). Steps in fabrication process were monitored utilizing optical and atomic force microscopy (AFM). Prepared graphene nanostructures were characterized with scanning electron microscope (SEM) and Fourier transform infrared spectrometer (FTIR).
|
|
|
Industrial applications of optical nanoantennas
Binková, Petra ; Édes, Zoltán (referee) ; Babocký, Jiří (advisor)
This bachelor's thesis deals with fabrication of optical nanoantennas using electron beam lithography and their industrial applications. We have designed optical components that can be used as optical security elements to prevent forgery of plastic bank notes, ID cards, credit cards etc. Designed structures were succesfully fabricated and tested.
|
guest ::
