Hlavní stránka > Výsledky hledání: 999C1a:FR-TI1/576
Hledej:
 
Tipy pro vyhledávaní :: Jednoduché hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 12 záznamů.  předchozí11 - 12  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography
 Urbánek, Michal ; Kolařík, Vladimír ; Král, Stanislav ; Dvořáková, Marie
Electron beam lithography (EBL) is a tool for generation patterns with high resolution, so it is necesessary to control critical dimensions of created patterns, because the undesired influence of adjacent regions to those exposed can occur due to the proximity effect. Proximity effect is often described by two Gaussian function, where .alpha. represents forward scattering range parameter. Consequently, we present evaluation of proximity parameter .alpha. by various method in this paper.
Úplný záznam
Modification of the Schottky Fe ZrO/W electron emitter
 Matějka, František ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Král, Stanislav
A Schottky electron emitter with a layer of ZrOx is used in our e-beam writing system working with a rectangular-shaped electron beam. The low radius of the tip less than 300 nm is necessary for the proper function of the electron-optical system based on the principle of point projection. We studied the influence of both the surface treatment and the change of the shape of the tip on the emission characteristics.
Úplný záznam

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 12 záznamů.   předchozí11 - 12  přejít na záznam:
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English