|
|
Expozice fotorezistu přes LCD panel
Fiala, Matouš ; Starý, Jiří (oponent) ; Vyroubal, Petr (vedoucí práce)
Bakalářská práce se zabývá návrhem a tvorbou zařízení využívající panel s tekutými krystaly pro vytvoření motivu při expozici fotorezistu ultrafialovým zářením. Pro funkční návrh je nezbytné porozumět a chápat jednotlivé dílčí části zařízení, fyzikální principy i řízení procesu expozice. První část textu se zabývá teoretickým souhrnem, který by měl čtenáře uvést do problematiky, o které se dále pojednává. Dále následuje rozbor a návrh řešení konkrétní překážek týkajících se návrhu a procesu realizace zařízení. Součástí práce je výroba prototypu zařízení, vytvoření softwaru zařízení a ovládací aplikace s uživatelským prostředím, přes které je zařízení ovládáno. Práce dále obsahuje simulace, CAD model prototypu, dokumentaci a naměřené výsledky expozice.
|
|
|
Expoziční zařízení pro DPS
Fiala, Matouš ; Čech, Ondřej (oponent) ; Vyroubal, Petr (vedoucí práce)
Diplomová práce se zabývá výrobou zařízení pro expozici desek plošných spojů, včetně vytvoření teoretického základu k pochopení procesu výroby DPS, využitím litografie přes panel s tekutými krystaly pro vytvoření motivu. Součástí práce je tvorba CAD modelu zařízení, včetně zdroje UV záření a následně tepelné simulace chlazení zařízení. Při výrobě zařízení byla také vytvořena vlastní základová deska, která integruje všechny elektronické komponenty. Hlavním výsledkem této práce je sestavené funkční zařízení s jedinečným uložením LCD vrstvy, která umožňuje spolehlivou expozici dvouvrstvých DPS, což je podloženo testováním. Nejobsáhlejší část této diplomové práce se zabývá vytvořením kompletní softwarové platformy, skládající se z aplikace běžící na mikropočítači expozičního zařízení a multiplatformní aplikace, přes kterou se zařízení bezdrátově ovládá.
|
|
|
Expozice fotorezistu přes LCD panel
Fiala, Matouš ; Starý, Jiří (oponent) ; Vyroubal, Petr (vedoucí práce)
Bakalářská práce se zabývá návrhem a tvorbou zařízení využívající panel s tekutými krystaly pro vytvoření motivu při expozici fotorezistu ultrafialovým zářením. Pro funkční návrh je nezbytné porozumět a chápat jednotlivé dílčí části zařízení, fyzikální principy i řízení procesu expozice. První část textu se zabývá teoretickým souhrnem, který by měl čtenáře uvést do problematiky, o které se dále pojednává. Dále následuje rozbor a návrh řešení konkrétní překážek týkajících se návrhu a procesu realizace zařízení. Součástí práce je výroba prototypu zařízení, vytvoření softwaru zařízení a ovládací aplikace s uživatelským prostředím, přes které je zařízení ovládáno. Práce dále obsahuje simulace, CAD model prototypu, dokumentaci a naměřené výsledky expozice.
|
host ::
RSS.