Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"Electron beam lithography Electron beam writer BS600 Diffractive structures"
Hledej:
Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 2 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie
 Daněk, Lukáš ; Urban, František (oponent) ; Klapetek,, Petr (oponent) ; Kolařík, Vladimír (vedoucí práce)
Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600.
Úplný záznam
Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie
 Daněk, Lukáš ; Urban, František (oponent) ; Klapetek,, Petr (oponent) ; Kolařík, Vladimír (vedoucí práce)
Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600.
Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English